偏光X線を使った直接分解と間接(二次電子)機構の収量比

Estimation of contributions from direct and indirect (secondary electron) mechanisms in X-ray induced decomposition using polarized X-rays

関口 哲弘  ; 馬場 祐治  ; 下山 巖   

Sekiguchi, Tetsuhiro; Baba, Yuji; Shimoyama, Iwao

X線照射に伴う解離生成過程にはX線励起による直接的な解離のほかに固体内部から非弾性散乱を通じて生じる高エネルギー二次電子の衝突励起による成分が含まれる。超高真空容器内で回転可能な飛行時間質量分析装置(R-TOF-MS)を開発し、X線の直線偏光に依存する解離イオン脱離の質量スペクトルを測定した。偏光に依存する成分は少なくとも、X線励起による直接解離によると仮定できる。一方、偏光に依存しない成分を二次電子による間接過程の成分と仮定した。塩化ベンゼン(C6D5Cl)凝集固体を試料として、2つの反応機構の比を見積る試みを行った。Cl内殻共鳴励起ではC-Cl切断により生じるCl+収量に大きな偏光依存性が示され、直接過程は90%以上に達した。Cl励起でも、C-D切断により生じるD+収量には大きな偏光依存性は示されないという、結合切断サイト選択性が見いだされた。

Using a newly developed rotatable time-of-flight mass spectrometer (R-TOF-MS) and polarized synchrotron radiation, fragmentation and desorption pathways occurring at the top layers of molecular solids have been investigated. We estimate ratio between direct and indirect mechanisms on the basis of polarization-angle dependencies of TOF mass spectra, high-resolution electron- and ion-NEXAFS in condensed chlorobenzene (C6D5Cl).