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First-principle calculation for the optical breakdown of SiO$$_2$$ under the intense laser field

SiO$$_2$$結晶のレーザーによる絶縁破壊過程の第一原理計算

乙部 智仁; 矢花 一浩*; 岩田 潤一*

Otobe, Tomohito; Yabana, Kazuhiro*; Iwata, Junichi*

レーザーによる透明素材の加工及び制御において電子励起とそれに伴う絶縁破壊過程の解明が必要とされている。本研究では時間依存密度汎関数法を用いた第一原理計算による電子ダイナミクスと励起過程の記述と理解を目指している。これまでにダイアモンドの絶縁破壊過程の研究を行い新しい知見を得た。本発表では結晶構造やバンドギャップといった物性値が全く違うSiO$$_2$$のレーザー中での電子ダイナミクスの計算結果と物質による電子励起過程の違いについて報告する。

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