First-principle calculations for the interaction between a SiO and the intense short pulse laser

大強度超短パルスレーザーとSiOの相互作用の第一原理計算

乙部 智仁; 矢花 一浩*; 岩田 潤一*

Otobe, Tomohito; Yabana, Kazuhiro*; Iwata, Junichi*

レーザーによる透明素材の加工及び制御において、電子励起とそれに伴う絶縁破壊過程の解明が必要とされている。本研究では時間依存密度汎関数法を用いた第一原理計算による多電子ダイナミクスと励起過程の記述と理解を目指している。本発表では次世代光デバイスとして注目されているSiOのレーザー場中での電子ダイナミクスの計算結果と結晶構造やバンド構造が与える影響について報告する。

The optical breakdown of transparent material under the intense laser field has been attracted much interest. We employ the time-dependent density-functional theory to calculate the electron dynamics and the excitation in the SiO, which is the major material as the future photonic device, under the intense laser field. We would like to present our computational results and the effect of the crystal and the band structure on the optical breakdown process.