Spectral change of X-ray absorption near edge structure of DNA thin films irradiated with monochromatic soft X-rays

単色軟X線照射によるDNA薄膜に対するX線吸収端近傍スペクトル変化

藤井 健太郎; 横谷 明徳

Fujii, Kentaro; Yokoya, Akinari

本研究では単色軟X線を照射したことによって生じた、DNA損傷のX線吸収端近傍スペクトルを観測した。実験では子牛胸腺DNA薄膜に対して、窒素及び酸素K殻吸収端近傍スペクトルを観測した。照射した軟X線は窒素K殻吸収端前後及び酸素K殻吸収端前後のエネルギーである。得られたスペクトルから照射によってサンプル内にカルボニル基が生成していることが明らかになった。さらに酸素K殻イオン化により、プロペナール基が生成していることが明らかになった。この結果より、単色軟X線によるサイト選択的損傷生成について議論する。

In this study, we have investigated the spectral of the X-ray absorption near edge structure (XANES) of DNA caused by exposure to monochromatic soft X-rays. We used a calf thymus DNA thin film as a sample and observed nitrogen K-shell and oxygen K-shell XANES spectral changes. The typical monochromatic soft X-ray energies used for the irradiation (395, 408, 528, and 538 eV) were obtained from SPring-8, BL23SU. These energies correspond to just below nitrogen K-shell, just above nitrogen K-shell, just below oxygen K-shell, and just above oxygen K-shell, respectively. The obtained results indicate that carbonyl groups may be produced in the sample. In particular, the production of a propenal group (O=C-C=C) by oxygen ionization is expected. We will discuss the site selective damage induction in DNA using highly monochromatized synchrotron soft X-rays.