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Si(111)-7$$times$$7への室温での酸素吸着過程に及ぼす酸素分子の並進運動エネルギーの役割

Role of translational kinetic energy of O$$_{2}$$ in oxygen adsorption process on Si(111)-7$$times$$7 surface at room temperature

吉越 章隆 ; 寺岡 有殿

Yoshigoe, Akitaka; Teraoka, Yuden

並進運動エネルギー(E$$_{k}$$)が0.07eV付近を越えると、Si(111)-7$$times$$7表面へのO$$_{2}$$吸着は、前駆的吸着状態を経由した吸着過程から直接吸着過程が主となる。E$$_{k}$$が0.14eVを越える条件でリアルタイム光電子分光観察を行い、各酸素吸着構造及びSi酸化状態の生成に対する並進運動エネルギーの役割を調べたので報告する。${it ad}$ oxygenの生成促進等とともにSi$$^{3+}$$とSi$$^{4+}$$酸化状態が照射直後から観測されるなど、E$$_{k}$$=0.14eV以下と大きく異なる結果を得た。

no abstracts in English

使用言語

 :

Japanese

掲載資料名

 :

巻

 :

号

 :

ページ数

 :

発行年月

 :

発表会議名

 :

2009年(平成21年)春季第56回応用物理学関係連合講演会

開催年月

 :

2009/03

開催都市

 :

つくば

開催国

 :

日本

キーワード

 :

no keyword

特許データ

 :

PDF

 :


論文URL

 :

研究データの公開先DOI

 :

使用施設

 :

SPring-8(大型放射光施設)

広報プレスリリース

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論文解説記事
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