量子ビームを用いた非破壊プロファイリング

Non-destructive profiling by quantum beams

山本 博之; 江坂 文孝  ; 松江 秀明 ; 笹瀬 雅人*

Yamamoto, Hiroyuki; Esaka, Fumitaka; Matsue, Hideaki; Sasase, Masato*

あらゆる物質について元素・化学結合・量・位置に関する情報が「その場」において瞬時・非破壊・高精度・簡易、さらに再現性よく得られれば、それは分析の終点とも言える。もしそのような情報に到達すれば、物質の現時点を明らかにできるだけでなく、「未来」を精度よく判断,予測することにもつながる。近年の材料作製技術の進捗についてはよく知られている通り、原子レベルの細工が可能となってきている。当然これらの作製技術に対応する分析技術も必要となる。本稿では、「量子ビーム」を利用した幾つかの分析の現状、特に表面から内部にいたる非破壊プロファイリングを中心に紹介するとともに、これと相補的に用いることにより情報の精度・正確さを向上させるために用いられる実験室規模の各種励起源による解析についても記述した。これらの現状をもとに、量子ビームと分析の将来を展望した。

Present status and future prospects are discssed on the analysis of profiling by quantum beams.