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Charge enhancement effects in 6H-SiC MOSFETs induced by heavy ion strike

6H-SiC MOSFET中に重イオンが誘起する電荷の増幅効果

小野田 忍; 牧野 高紘; 岩本 直也*; Vizkelethy, G.*; 児島 一聡*; 野崎 眞次*; 大島 武

Onoda, Shinobu; Makino, Takahiro; Iwamoto, Naoya*; Vizkelethy, G.*; Kojima, Kazutoshi*; Nozaki, Shinji*; Oshima, Takeshi

耐放射線性炭化ケイ素(SiC)半導体デバイス開発の一環として、単一の重イオンが六方晶(6H)SiC電界効果トランジスタ(MOSFET)に入射した際、ドレイン,ソース,ゲート電極に誘起される過渡電流の計測を行った。重イオンがドレインに入射した際に発生したドレイン電流は、イオンの入射エネルギーから算出した電荷量よりも大きな電荷量であることがわかった。解析の結果、ソース(n$$^+$$)-エピタキシャル層(p)-ドレイン(n$$^+$$)から成る寄生npnバイポーラトランジスタによる電流増幅効果であることを明らかにした。

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