Si(111)-77表面の室温酸化における酸素分子の並進運動エネルギーに依存した表面形状

Surface topography depending on translational kinetic energy of O $_{2}$ in oxidation of Si(111)-77 at 300 K

酸素分子の並進運動エネルギーに依存したSi(111)表面の形状の違いをSTMによって観察した。並進運動エネルギーを0.06eV及び2.2eVとした飽和吸着時の300nm300nmにはステップとテラスが観測された。テラス上には77構造は観察されず、ランダムに分布する凸凹が観察された。2.2eVでは、大きく明るい凸部分が観測され酸化物成長の促進が示唆された。

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使用言語	:	Japanese
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発行年月	:
発表会議名	:	2010年真空・表面科学合同講演会; 第30回表面科学学術講演会/第51回真空に関する連合講演会
開催年月	:	2010/11
開催都市	:	吹田
開催国	:	日本
キーワード	:	no keyword

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使用施設	:	SPring-8(大型放射光施設)
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登録番号 : BB20101718
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Si(111)-77表面の室温酸化における酸素分子の並進運動エネルギーに依存した表面形状

Surface topography depending on translational kinetic energy of O in oxidation of Si(111)-77 at 300 K

Surface topography depending on translational kinetic energy of O $_{2}$ in oxidation of Si(111)-77 at 300 K