フェムト秒レーザーアブレーションにおけるパルスの蓄積効果

Incubation effect of femtosecond-laser ablation

山本 稔; 長谷川 登; 寺川 康太*; 梅田 善文*; 富田 卓朗*; 越智 義浩; 河内 哲哉; 大場 俊幸; 海堀 岳史; 南 康夫*; 末元 徹

Yamamoto, Minoru; Hasegawa, Noboru; Terakawa, Kota*; Umeda, Yoshifumi*; Tomita, Takuro*; Ochi, Yoshihiro; Kawachi, Tetsuya; Oba, Toshiyuki; Kaihori, Takeshi; Minami, Yasuo*; Suemoto, Toru

近年、フェムト秒レーザー照射により誘起されるアブレーションや表面構造変化において、ナノ秒パルスや連続波のレーザーでは見られなかった現象が数多く報告されている。特に、1パルス照射あたり数ナノメートルの加工が起こる低アブレーションレート領域の存在は、微細加工技術への応用として期待されている。しかしながら、この領域のアブレーションプロセスは、パルス照射ごとに一定のレートでアブレーションが起こるのか、あるいはある程度の照射パルスが蓄積されてアブレーションが起こるのか明らかにされていない。本研究では、低アブレーションレート領域の加工プロセスを明らかにするために、軟X線レーザーを用いた干渉計を構築し、フェムト秒レーザーパルスの蓄積効果のその場観察に応用した。その結果、ある程度照射パルスが蓄積されてからアブレーションが起こることが明らかになった。

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