Near edge X-ray absorption spectroscopy of DNA damage induced by soft X-rays

軟X線によって誘発されるDNA損傷のX線吸収端近傍微細構造スペクトル

藤井 健太郎; 横谷 明徳

Fujii, Kentaro; Yokoya, Akinari

軟X線照射によりDNA薄膜に生じる分子構造変化について、照射前後の軟X線吸収端近傍微細構造(NEXAFS)スペクトルの比較から得られる情報から推測した。試料として仔牛胸腺DNA薄膜を用いた。実験は原子力機構専用軟X線ビームラインBL23SUにおいて行った。窒素及び酸素K殻電離領域の単色軟X線(380-760eV)を室温で照射し、照射前後でDNA薄膜のNEXAFSスペクトルの測定を行った。得られたスペクトルから、照射により生じた分子構造変化について考察した結果、核酸塩基のプリンあるいはピリミジン環内の結合切断や照射による新たな生成物が生じていると予想される。

We have investigated the change of the spectra of the near edge X-ray absorption fine structure (NEXAFS) of DNA exposed to monochromatic soft X-rays. We used calf thymus DNA thin films as samples and observed N K-shell and O K-shell NEXAFS spectral changes. The typical monochromatic soft X-ray energies used for the irradiation (380, 435, 560, and 760eV) were obtained from SPring-8, BL23SU. The observed spectra show the initiation of the new products and the dissociation of molecular structure of the DNA by the irradiation. By comparing the spectral changes in NEXAFS with the yields of base lesions and strand breaks, we will discuss the molecular structure of DNA damage site and the site-selectivity of damage induction in DNA by soft X-rays.