昇温脱離温度との相関 thermal desorption temperature戸出 真由美; Harries, J.; 寺岡 有殿; 吉越 章隆 
Tode, Mayumi; Harries, J.; Teraoka, Yuden; Yoshigoe, Akitaka
水素貯蔵材料の表面酸化膜の熱変性と、水素の脱離温度との関連を研究するため、重水素化したバナジウム単結晶表面皮膜の放射光光電子分光分析と昇温脱離ガス分析の同時計測を行った。実験はSPring-8の原子力機構専用軟X線ビームライン(BL23SU)に設置した表面反応分析装置(SUREAC2000)を用いて行った。超音速酸素分子線によって形成した人工酸化膜と、酸素暴露によって形成した人工酸化膜を用意し、両者の比較を行った。酸化膜は形成後に重水素イオン注入によって水素化を行った。超音速酸素分子線で形成した酸化膜上から重水素化を行った試料は523K以上、酸素暴露で形成した酸化膜上から重水素化を行った試料は623K以上の温度で熱変性することがわかった。同時計測したD昇温脱離スペクトルでは、前者は373K-500K、後者は373K-600Kの領域でD分子の脱離が観測された。
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使用言語 |
: | Japanese |
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: | 2011/11 |
開催都市 |
: | 宜野湾 |
開催国 |
: | 日本 |
キーワード |
: | no keyword |
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