検索対象:     
報告書番号:
※ 半角英数字
 年 ~ 
 年

Measurement and simulation of the cross sections for nuclide production in $$^{rm nat}$$W and $$^{181}$$Ta targets irradiated with 0.04- to 2.6-GeV protons

0.04-2.6GeVの陽子入射による$$^{rm nat}$$W及び$$^{181}$$Taターゲット内部の核種生成断面積の測定と計算

Titarenko, Yu. E.*; Batyaev, V. F.*; Titarenko, A. Yu.*; Butko, M. A.*; Pavlov, K. V.*; Florya, S. N.*; Tikhonov, R. S.*; Zhivun, V. M.*; Ignatyuk, A. V.*; Mashnik, S. G.*; Leray, S.*; Boudard, A.*; Cugnon, J.*; Mancusi, D.*; Yariv, Y.*; 西原 健司  ; 松田 規宏  ; Kumawat, H.*; Mank, G.*; Gudowski, W.*

Titarenko, Yu. E.*; Batyaev, V. F.*; Titarenko, A. Yu.*; Butko, M. A.*; Pavlov, K. V.*; Florya, S. N.*; Tikhonov, R. S.*; Zhivun, V. M.*; Ignatyuk, A. V.*; Mashnik, S. G.*; Leray, S.*; Boudard, A.*; Cugnon, J.*; Mancusi, D.*; Yariv, Y.*; Nishihara, Kenji; Matsuda, Norihiro; Kumawat, H.*; Mank, G.*; Gudowski, W.*

0.04から2.6GeVのエネルギーを持つ陽子を$$^{rm nat}$$W及び$$^{181}$$Taの厚いターゲットに入射した場合の核種生成断面積を、2台の$$gamma$$スペクトロメータを用いて測定した。これらのスペクトロメータは1332keVの$$gamma$$線に対してそれぞれ1.8と1.7keVの解像度を有する。実験の結果1895の生成核種が同定された。$$^{27}$$Al($$p$$,$$x$$)$$^{22}$$Na反応をモニター反応として利用した。実験データをMCNPX(BERTINI, ISABELモデル), CEM03.02, INCL4.2, INCL4.5, PHITS、及び、CASCADE07コードの計算結果と比較した。

The cross sections for nuclide production in thin $$^{rm nat}$$W and $$^{181}$$Ta targets irradiated by 0.04 to 2.6GeV protons are measured by direct $$gamma$$ spectrometry using two $$gamma$$ spectrometers with the resolutions of 1.8 and 1.7 keV for the $$^{60}$$Co 1332-keV $$gamma$$ line. As a result, 1895 yields of radioactive residual product nuclei have been obtained. The $$^{27}$$Al($$p$$, $$x$$)$$^{22}$$Na reaction has been used as a monitor reaction. The experimental data are compared with the MCNPX (BERTINI, ISABEL), CEM03.02, INCL4.2, INCL4.5, PHITS, and CASCADE07 calculations.

Access

:

- Accesses

InCites™

:

パーセンタイル:85.54

分野:Physics, Nuclear

Altmetrics

:

[CLARIVATE ANALYTICS], [WEB OF SCIENCE], [HIGHLY CITED PAPER & CUP LOGO] and [HOT PAPER & FIRE LOGO] are trademarks of Clarivate Analytics, and/or its affiliated company or companies, and used herein by permission and/or license.