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Processes of silver photodiffusion into Ge-chalcogenide probed by neutron reflectivity technique

Geカルコゲナイドへの銀の光拡散の中性子反射率測定

坂口 佳史*; 朝岡 秀人; 魚住 雄輝; 川北 至信; 伊藤 崇芳*; 久保田 正人; 山崎 大; 曽山 和彦; Sheoran, G.*; Mitkova, M.*

Sakaguchi, Yoshifumi*; Asaoka, Hidehito; Uozumi, Yuki; Kawakita, Yukinobu; Ito, Takayoshi*; Kubota, Masato; Yamazaki, Dai; Soyama, Kazuhiko; Sheoran, G.*; Mitkova, M.*

アモルファスGeカルコゲナイド/銀の界面において光を照射すると拡散が促進される。非破壊かつ時間分解で観測できるJ-PARC(写楽)の中性子反射率測定を用いて、光照射によってAgが初期の急速な拡散から緩やかな拡散と2段階のプロセスを経て、界面の拡散層が形成されている様子を捉えた。

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パーセンタイル:57.78

分野:Materials Science, Multidisciplinary

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