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Si(110)-16$$times$$2構造の面内異方性

Anisotropic reconstructed silicon (110)-16$$times$$2 surface

朝岡 秀人 ; 矢野 雅大  ; 寺澤 知潮  ; 保田 諭  

Asaoka, Hidehito; Yano, Masahiro; Terasawa, Tomoo; Yasuda, Satoshi

表面に存在する歪みは、独自の再構成構造形成や、成長原子の拡散・吸着のカイネティクスに影響を与えるため、表面歪みの解明・制御はナノ構造創製のための有力な手段となる。一次元構造を有するSi(110)再構成構造の異方歪みを、水素終端Si(110)バルク構造と対比し実験的に決定した。表面特有の再構成構造が形成すると、下地のバルク構造に対応して基板は球殻の一部のような曲率が生じる。このとき、再構成構造表面とバルク構造基板との相互作用がちょうど釣り合うことから、基板の曲率を計測すると再構成構造の歪みを導くことができる。我々は表面形態と歪みの対応を明らかにするために、反射高速電子回折と基板曲率測定法のリアルタイム観測を行った。その結果、Si(110)表面へ原子状水素を暴露すると、水素終端Si(110)表面へ変移すると同時に、異方的な曲率が生じる様子を捉えることができた。Si(110)再構成構造の方位に対応した10$$^{-6}$$オーダーの歪みを決定した。

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