Si(110)-162構造生成に伴う面内異方性のその場観察

In-situ observation of anisotropic silicon (110)-162 reconstruction

Asaoka, Hidehito; Yano, Masahiro; Terasawa, Tomoo; Yasuda, Satoshi

Si(110)-162表面は再構成単位格子内に1原子層のステップを含む1次元構造を有する。Si(110)-162構造へ原子状水素を暴露し、水素終端Si(110)-11への構造生成過程の歪みをその場観察した。その結果、再構成構造に内在する異方性ストレスを明らかにした。

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使用言語	:	Japanese
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発表会議名	:	日本物理学会2019年秋季大会(物性)
開催年月	:	2019/09
開催都市	:	岐阜
開催国	:	日本
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