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Si(110)-16$$times$$2構造生成に伴う面内異方性のその場観察

In-situ observation of anisotropic silicon (110)-16$$times$$2 reconstruction

朝岡 秀人 ; 矢野 雅大  ; 寺澤 知潮  ; 保田 諭  

Asaoka, Hidehito; Yano, Masahiro; Terasawa, Tomoo; Yasuda, Satoshi

Si(110)-16$$times$$2表面は再構成単位格子内に1原子層のステップを含む1次元構造を有する。Si(110)-16$$times$$2構造へ原子状水素を暴露し、水素終端Si(110)-1$$times$$1への構造生成過程の歪みをその場観察した。その結果、再構成構造に内在する異方性ストレスを明らかにした。

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