永井 崇之 
; 下山 巖 
; 岡本 芳浩 ; 秋山 大輔*; 有馬 立身*
Nagai, Takayuki; Shimoyama, Iwao; Okamoto, Yoshihiro; Akiyama, Daisuke*; Arima, Tatsumi*
模擬HAWやガラス原料にU化合物を添加してU含有模擬廃棄物ガラスを作製し、U等の化学状態を硬X線領域のXAFS測定により評価した。その結果、U含有ガラスとU添加無ガラスのXAFS測定結果を比較し、廃棄物成分のCeの原子価がU共存により酸化する傾向を確認した。また、ラマン分光測定でガラス組成や作製条件によってSi-O構造が異なることから、軟X線領域のSiのK吸収端XAFS測定を試みた結果、Siの局所構造が組成によって僅かながら変化することを確認した。
no abstracts in English
使用言語 |
: | Japanese |
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ページ数 |
: | 3 Pages |
発行年月 |
: | 2020/00 |
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論文解説記事 |
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