コーティング方法

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【課題】コーティング層の剥離が発生しにくいコーティング方法を得る。【解決手段】この真空部品1においては、ARが導入されて前記のように電極20が正電位とされた場合(第1の状態)には、真空容器(部材)10内の実線矢印で示されるように、DC放電によって生成されたAR(正)イオンが負側となる真空容器10の内面10Aに衝突する(第1の工程)。このイオン衝撃によって、TI酸化物層をスパッタエッチし、除去することができる。この場合におけるTI酸化物層のエッチング深さは、スパッタリング時間(DC放電時間)、スパッタリング電流等によって調整することができる。TI酸化物層が除去された後で、ARが導入されて前記のように電極面20Aが負電位とされた場合(第3の状態)には、前記とは逆に、AR(正)イオンは負側となる電極面20Aに衝突する(第2の工程)。

Representative country of application	:	日本
Application number	:	2022-186285
Publication number	:	2023-021140
Patent number	:
Date of filing	:	2022/11/22
Date of publication	:	2023/02/09
Date of patent	:
PCT application number	:
PCT patent number	:
EPC application number	:
EPC patent number	:
International patent classification	:	H01J 41/20 (2006.01):H01J 37/16 (2006.01)
Relevant patent	:	[特許文献1]間瀬:国際公開番号WO2018/097325
Relevant other documents	:	[非特許文献1]C.Benvenuti,Vacuum53,219(1999).[非特許文献2]C.Benvenuti,Vacuum73,139(2004).[非特許文献3]T.Miyazawa,J.Vac.Sci.Technol.A37,021601(2019).[非特許文献4]C.Benvenuti,Vacuum60,57(2001).
Published unexamined patent application	:	P1/P53780A.pdfP53780A.pdf
Link for Patent Gazette	:
Licensable Patent Information Database	:	Licensable Patent Information Database
Press Release	:
Article of JAEA R&D Review	:

Access From 2021.3.1	:	- Accesses

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