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論文

Incorporation of a bromine atom into DNA-related molecules changes their electronic properties

平戸 未彩紀*; 横谷 明徳*; 馬場 祐治*; 森 聖治*; 藤井 健太郎*; 和田 真一*; 泉 雄大*; 芳賀 芳範

Physical Chemistry Chemical Physics, 25(21), p.14836 - 14847, 2023/05

 被引用回数:2 パーセンタイル:23.15(Chemistry, Physical)

To understand the mechanism underlying the high radio-sensitization of living cells possessing brominated genomic DNA, X-ray photoelectron spectroscopy was used. It was found that the bromine atom significantly reduced the energy gap between the valence and conduction states, although the core level states were not greatly affected.

論文

Electronic properties of DNA-related molecules containing a bromine atom

平戸 未彩紀*; 鬼澤 美智*; 馬場 祐治*; 芳賀 芳範; 藤井 健太郎*; 和田 真一*; 横谷 明徳*

International Journal of Radiation Biology, 99(1), p.82 - 88, 2023/01

 被引用回数:2 パーセンタイル:16.91(Biology)

The electronic properties of DNA-related molecules containing Br were investigated by X-ray spectroscopy and specific heat measurement. Our results suggest that the Br atom may not contribute substantially to the LUMO and core-level electronic states of the molecule, but rather to the microscopic states related to the excitation of lattice vibrations, which may be involved in valence electronic states.

論文

Spacing between graphene and metal substrates studied with total-reflection high-energy positron diffraction

深谷 有喜; 圓谷 志郎; 境 誠司; 望月 出海*; 和田 健*; 兵頭 俊夫*; 社本 真一

Carbon, 103, p.1 - 4, 2016/07

 被引用回数:27 パーセンタイル:61.44(Chemistry, Physical)

本研究では、全反射高速陽電子回折法を用いて、貴金属および遷移金属基板上のグラフェンの構造を調べた。動力学的回折理論に基づく構造解析から、CuおよびCo基板上のグラフェンの高さをそれぞれ3.34${AA}$および2.06${AA}$と決定した。Cu基板上のグラフェンの高さはグラファイトの層間距離に近く、グラフェン・Cu基板間の相互作用は非常に弱いことがわかった。一方、Co基板上のグラフェンの高さは、Cu基板上のものに比べ1${AA}$以上も低く、Co基板上のグラフェンは基板と強く相互作用していることが実験的に確かめられた。

論文

Progress in R&D efforts on the energy recovery linac in Japan

坂中 章悟*; 吾郷 智紀*; 榎本 収志*; 福田 茂樹*; 古川 和朗*; 古屋 貴章*; 芳賀 開一*; 原田 健太郎*; 平松 成範*; 本田 融*; et al.

Proceedings of 11th European Particle Accelerator Conference (EPAC '08) (CD-ROM), p.205 - 207, 2008/06

コヒーレントX線,フェムト秒X線の発生が可能な次世代放射光源としてエネルギー回収型リニアック(ERL)が提案されており、その実現に向けた要素技術の研究開発が日本国内の複数研究機関の協力のもと進められている。本稿では、ERL放射光源の研究開発の現状を報告する。

論文

Formation of fullerene(C$$_{60}$$) by laser ablation in superfluid helium at 1.5K

荒殿 保幸; 和田 晃*; 秋山 和彦; 北澤 真一; 北條 喜一; 楢本 洋*

Chemical Physics Letters, 408(4-6), p.247 - 251, 2005/06

 被引用回数:1 パーセンタイル:2.86(Chemistry, Physical)

1.5Kの超流動液体ヘリウム中において、レーザーアブレーションで生成した炭素粉末の中にフラーレンC$$_{60}$$が検出された。質量分析からC-12, C-13の分子内分布は、原材料のそれと異なりC-12が多いことがわかった。初期反応過程として、バブル状炭素のトンネル反応によるC2分子形成を提案した。

口頭

全反射高速陽電子回折を用いた金属表面上のグラフェンの構造決定

深谷 有喜; 圓谷 志郎; 境 誠司; 望月 出海*; 和田 健*; 兵頭 俊夫*; 社本 真一

no journal, , 

グラフェンは、極めて高い電子移動度やその他多くの優れた物性をもつ新規材料である。電子デバイスへの応用を考えると、グラフェンと電極を構成する金属との接触は必須である。理論的には、金属表面との相互作用の強さにより、グラフェンの電子特性が変調されることが報告されている。相互作用の強さとグラフェン・金属表面間の距離は相関があるため、金属表面からのグラフェンの高さを実験的に決定することは重要である。本研究では、全反射高速陽電子回折(TRHEPD)を用い、様々な金属基板上でのグラフェンの吸着高さを決定した。Cu(111)およびCo(0001)表面上に作製したグラフェンからのTRHEPDロッキング曲線を測定したところ、基板を構成する元素の違いによる形状の変化を観測した。構造解析の結果、CuとCo表面上でのグラフェンの高さをそれぞれ3.32${AA}$と2.24${AA}$と決定した。実際の解析ではグラフェンのバックリングも考慮したが、フィッティングの改善は見られなかった。以上の結果から、CuとCo表面上のグラフェンは平坦な構造であり、Cu表面上に比べ、Co表面上のグラフェンは下地と強く相互作用していることがわかった。

口頭

全反射高速陽電子回折によるグラフェン・Co(0001)基板間への金属原子インターカレーションの研究

深谷 有喜; 圓谷 志郎; 境 誠司; 望月 出海*; 和田 健*; 兵頭 俊夫*; 社本 真一

no journal, , 

現在、グラフェン/金属基板の界面に異種原子をインターカレーションさせることにより、グラフェンの電子状態を意図的に変化させる試みがなされている。本研究では、全反射高速陽電子回折(TRHEPD)法を用いて、グラフェン/Co基板間へのAu, Ag原子のインターカレーションによる構造変化を調べた。グラフェン/Co表面上にAu原子を蒸着し、1000$$^{circ}$$Cでアニールしたところ、TRHEPDロッキング曲線のピーク位置が大きく変化することがわかった。解析の結果、最初Co表面上のグラフェンの高さは2.24${AA}$であったが、Au原子の蒸着・アニール後のグラフェンの高さは3.29${AA}$であった。したがって、Au原子がグラフェン/Co基板間にインターカレートすることにより、グラフェンと基板原子との相互作用が変化し、結果としてグラフェンの高さが大きくなったと考えられる。講演では、Au原子のインターカレーションのメカニズムの詳細やAg原子のインターカレーションとの比較についても報告する。

口頭

Structure determination of graphene on metal substrate using total-reflection high-energy positron diffraction

深谷 有喜; 圓谷 志郎; 境 誠司; 望月 出海*; 和田 健*; 兵頭 俊夫*; 社本 真一

no journal, , 

グラフェンは、極めて高い電子移動度や熱伝導度など、応用上有用な物性を多く有する新物質である。最近、様々な金属基板上でグラフェンの合成が可能になった。理論的な先行研究から、グラフェンと基板との距離はその基板の構成元素に依存し、さらにディラックコーンのエネルギー分散を変化させることが示された。しかし、グラフェンの高さは実験的にほとんど決定されていない。本研究では、全反射高速陽電子回折(TRHEPD)法を用いて、CuとCo基板上のグラフェンの構造を実験的に決定した。TRHEPDロッキング曲線の測定結果には、基板元素の違いによる形状の変化が観測された。構造解析の結果、CuおよびCo基板上のグラフェンの高さをそれぞれ3.32${AA}$と2.24${AA}$と決定した。前者の値はグラファイトの層間距離に近い。したがって、貴金属基板上のグラフェンは、遷移金属に比べて、基板と弱く相互作用していることがわかった。

口頭

全反射高速陽電子回折によるグラフェン・金属基板間への異種原子インターカレーションの研究

深谷 有喜; 圓谷 志郎; 境 誠司; 望月 出海*; 和田 健*; 兵頭 俊夫*; 社本 真一

no journal, , 

近年、様々な基板上で単層グラフェンの合成が可能となっている。最近では、グラフェンと基板間に異種原子をインターカレートすることにより、新たなグラフェン物性の発現が試みられている。インターカレーションに伴う物性変化は精力的に調べられているものの、原子配置の変化は実験的に調べられていない。グラフェンと基板との間隔はそのグラフェンの物性に大きく影響するため、原子配置の変化を実験的に決定することは非常に重要である。本研究では、表面付近の原子配置を正確に決めることができる全反射高速陽電子回折(TRHEPD)を用いて、コバルト基板上のグラフェンへの金原子インターカレーションによる原子配置の変化を調べた。金原子を蒸着・アニール後のコバルト基板上のグラフェンからのロッキング曲線を測定したところ、金原子蒸着前のものからピーク位置が大きく変化した。金原子がグラフェンとコバルト基板間にインターカレートしたと仮定して解析した結果は実験結果をよく説明できる。一致の良さはこの解釈でよいことを示す。グラフェンと金原子層の間隔は3.32${AA}$であり金原子蒸着前のものより1${AA}$以上も高い。したがって、金原子がインターカレートすることにより、グラフェン・コバルト間の強い化学結合は切断され、グラフェンは金原子と弱く結合したと考えられる。

口頭

Novel qualitative evaluation method of microstructure in ODS alloy by anomalous small-angle X-ray scattering technique

金野 杏彩; 大場 洋次郎; 冨永 亜希; 諸岡 聡; 大野 直子*; 橋本 直幸*; 鵜飼 重治; 大和田 謙二*; 元川 竜平; 熊田 高之; et al.

no journal, , 

高温クリープ強度と照射耐性に優れるODS合金は、核融合炉の有力な候補材料の一つである。しかしながら、高Cr含有フェライト系ODS鋼は、748K以下の高温で長時間熱時効すると相分離を起こし、材料の脆化を招いてしまうことが懸念されている。そこで、脆化の詳細を解釈するため、微細組織だけでなく異常X線小角散乱法を用いた。この手法は、見たい元素の電子軌道に近接した波長のX線を照射することでその元素の情報のみを抽出することができるため、照射材料のような複雑な組織の分析に適している。本研究では、高Cr-ODS鋼に関して異常X線小角散乱法とTEMを併用し、それらを比較し微細組織の情報を定量的に評価することを目的とした。試料は商用MA956(Fe-20Cr-4.8Al-0.4Ti-0.02C-0.4Y$$_{2}$$O$$_{3}$$ (mass%))で、本試料に関して748Kでの熱時効を0, 1, 10, 100, 1000時間施した後、SPring-8のBL22XUにて異常X線小角散乱法を実施し、FIBにて作成した試料に対してTEM観察を行った。異常X線小角散乱法を用いた分析結果によると、Crリッチ相のサイズは熱時効時間の増加とともに増大しており、100時間以上の熱時効で明瞭な界面を持つ析出、10時間以下で明瞭な界面を持たない相分離であることが示唆された。一方で、TEM観察結果によると100時間以上の熱時効材においては、球状の析出物、10時間以下では周期的な変調構造のような組織がそれぞれ確認された。これは、熱時効10時間と100時間の間にスピノーダル分解から析出へと変化する遷移点があることを示唆している。今後詳細な微細組織分析を実施予定である。

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