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寺岡 有殿; 吉越 章隆
Proceedings of 3rd International Symposium on Atomic Level Characterizations for New Materials and Devices '01 (ALC '01), p.341 - 344, 2001/11
Si(001)表面とO分子の表面反応においては、室温でO分子の解離吸着が起こり表面が酸化される(パッシブ酸化)。一方、表面温度がおおむね700以上では酸化反応生成物としてSiO分子が熱脱離して表面に酸素は残らない。今回はO分子の初期吸着確率の入射エネルギー依存性とSiO脱離速度の入射エネルギー及び表面温度依存性を測定した。前者は酸素カバレッジのup-take曲線の一次微分から求めた。後者の実験には同位体Oを用いてSiO(m/e=46)を検出することによりCOバックグラウンドの影響のない高精度の測定ができた。これらにより初期吸着確率が0.3eVに極小点を持つことやSiO生成温度の下限が入射エネルギーに依存するなどの新しい知見を得た。初期吸着には前駆体経由過程と直接解離過程があることが見いだされた。
松崎 禎市郎*; 永嶺 謙忠*; 石田 勝彦*; 中村 哲*; 河村 成肇*; 棚瀬 正和; 加藤 岑生; 黒沢 清行; 橋本 雅史; 須貝 宏行; et al.
Hyperfine Interactions, 118(1-4), p.229 - 234, 1999/00
英国Rutherford Appleton Laboratory,ISIS内のRIKEN-RALミュオン施設において、現在D-T反応によるミュオン触媒核融合(CF)実験中である。トリチウム取り扱いシステムを使用して、高純度トリチウムの1500Ciを用いて、実験の直前にHe-3を除いた液体及び固体におけるtt反応を観測した。実際tt反応は、dt反応のバックデータとしてだけでなく、tt反応に関連した新しい物理現象として重要である。この実験結果について報告する。
工藤 博司; 藤江 誠; 棚瀬 正和; 加藤 岑生; 黒沢 清行; 須貝 宏行; 梅澤 弘一; 松崎 禎市郎*; 永嶺 謙忠*
Applied Radiation and Isotopes, 43(5), p.577 - 583, 1992/00
ミュオン触媒核融合(CF)実験で必要とする高純度、高濃縮トリチウムを50TBqレベルで調製した。同位体濃縮にはガスクロマトグラフ法を、化学的精製には活性ウランによるトリチウム化物生成反応を利用するシステムを考案し、最終的には同位体純度99.9%以上、化学的純度99.7%以上の高品位トリチウムガスを得た。特に、CF実験の妨害となるHeおよびHeの混入は、調製直後の値として0.02%以下に抑えることができた。このトリチウムガス(300ml)をDガスと混合(1:2)してターゲット容器に充填し、20Kで液化後ビームで照射した。CFサイクルにおける-付着率としてo=0.390.14%を得た。
野口 宏; 村田 幹生; 鈴木 克巳*
保健物理, 25, p.209 - 219, 1990/00
大気エアロゾル粒子への放射性元素状ヨウ素(I)ガスの吸着による粒子状ヨウ素の生成ならびに粒子状ヨウ素からのヨウ素の脱離についての実験を行なった。その結果、初期Iガス濃度が高い領域では約12分以内に吸着反応が平衡に到達すること、およびエアロゾルへのI吸着割合は反応時間31分の場合は初期Iガス濃度が増加するにつれて減少するが、反応時間が2分の場合はほぼ一定であることがわかった。また、粒子状ユウ素から一部のヨウ素が脱離したが、その大部分はIであった。吸着等温線から導き出した吸着評価式を用いて理論的解析を行なった結果、式中の付着確率を0.012としたとき、実験結果をおおよそ説明できることがわかった。