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大塚 昭夫*; 川面 澄; 藤本 文範*; 小牧 研一郎*; 小沢 国夫; 寺沢 倫孝*
Journal of the Physical Society of Japan, 53(3), p.1001 - 1005, 1984/00
被引用回数:5 パーセンタイル:52.62(Physics, Multidisciplinary)2MV VdG加速器の重イオンを用いてBeから発生するK及びK超衛星線を結晶分光器により測定し、BeのK殻電子の単一及び二重電離断面積を求めた。入射イオンとしては0.3~1.3MeVのC,N,O及びNeイオンが用いられた。実験データはNe+Beの系を除いては2p-2pбカップリングによる分子軌道モデルによって説明された。
大塚 昭夫*; 小牧 研一郎*; 藤本 文範*; 川面 澄; 小沢 国夫; 嶋田 寿一*
Japanese Journal of Applied Physics, 22(8), p.1306 - 1309, 1983/00
被引用回数:1 パーセンタイル:11.45(Physics, Applied)2MV及び5.5MV Van de Graaff加速器を用いて、ラザフォード後方散乱法によりアモルファスSi中にドープされた数%の希ガス原子のHeイオンに対する阻止能を測定した。Heイオンのエネルギーは8%Arを含んだ試料では1.0~2.6Mev、7%Kr又は4%Keを含んだ試料では1.0~1.6MeVであった。Bragg則とZieglerによるSiの阻止能を用いて希ガスの阻止能を求めることができた。その結果、イオンエネルギー1MeV近辺ではガス状態に対するZiegierの値より約30%低くなることが明らかとなった。
竹崎 淳一; 岡田 紀夫; 桜田 一郎*
J.Appl.Polym.Sci., 22, p.3311 - 3325, 1978/00
被引用回数:14水を飽和させたスチレンを最高10rad/secまでの広い範囲の線量率にわたって、電子線照射による重合反応を行ない、重合速度、生成物の分子量分布を調べた。比較のために行なったCaHで乾燥したスチレン(含水率 3.510mole/l)では生成物はオリゴマー、イオン重合ポリマー、ラジカル重合ポリマーに対応するピークを有し、高線量率下では、イオン重合が支配的におこることがわかった。水飽和スチレン(含水率 3.510mole/l)では生成物は、オリゴマー、イオン重合ポリマー、ラジカル重合ポリマーに対応するピークの他に分子量10の新しい高分子量ポリマーが生成することがわかった。これらの結果にもとづいて、電子線による重合反応の開始機構について提案した。
竹崎 淳一; 岡田 紀夫; 桜田 一郎*
J.Appl.Polym.Sci., 21(10), p.2683 - 2693, 1977/10
被引用回数:14スチレンをコバルト60の線、VdG加速器の電子線を用い4.210~1.210rad/secの線量率範囲にわたって照射し、重合反応を行なった。実験した線量率ならびにスチレンの含水率の全領域にわたってラジカルおよびイオン機構による重合反応が共存しておこると仮定して動力学式を誘導した。実験した範囲内、すなわち線量率4.210~1.210rad/sec、スチレンの含水率3.2103~3.510mol/lの範囲で、全重合速度、ラジカル重合速度、イオン重合速度は計算値と実験値はよく一致した。 種々の条件下で得られたポリマーのGPC曲線により、ラジカルならびにイオン機構の寄与を評価できる。イオン機構の寄与は、重量基準で示せば、本実験範囲で0~100%にわたって変化した。しかし、モル基準で示せば、実験した線量率領域で一定であった。
藤本 文範*; 川面 澄; 小沢 国夫; 寺沢 倫孝*
Phys.Lett.,A, 57(3), p.263 - 264, 1976/03
陽子及びヘリウムイオン衝撃したBe標的から発生するX線を結晶分光器にて測定した。Be K-X線以外に146.1eVにBe K-X線をヘリウム衝撃の場合には観測できたが陽子の場合には観測できなかった。入射粒子の電荷(Z)による内殻二重電離断面積の相違について理論と比較検討した。
小林 千明; 神田 将
JAERI-M 5032, 16 Pages, 1972/11
1972年6月核物理第1研究室の2MV VdGによる窒素イオン加速の特性について述べる。1価の窒素イオンは、0.7Mev6A得られ、照射損傷の実験には充分な値であることが確認された。イオン源は、RF型を使用したので、VdG高圧端子部の改造はわずかであり、陽子、重陽子加速に変換する作業性も良い。イオン源の寿命は約100時間である。真空系の改善、分析電磁石の増力により、さらに高エネルギー、高強度の重イオンビームが期待できる。