Stopping cross-sections of rare gases in amorphous silicon for MeV energy helium ions

MeV領域HeイオンによるアモルファスSi中の希ガスの阻止能

not registered; not registered; not registered; Kawatsura, Kiyoshi; Ozawa, K.; not registered

2MV及び5.5MV Van de Graaff加速器を用いて、ラザフォード後方散乱法によりアモルファスSi中にドープされた数%の希ガス原子のHeイオンに対する阻止能を測定した。Heイオンのエネルギーは8%Arを含んだ試料では1.0~2.6Mev、7%Kr又は4%Keを含んだ試料では1.0~1.6MeVであった。Bragg則とZieglerによるSiの阻止能を用いて希ガスの阻止能を求めることができた。その結果、イオンエネルギー1MeV近辺ではガス状態に対するZiegierの値より約30%低くなることが明らかとなった。

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使用言語	:	English
掲載資料名	:	Japanese Journal of Applied Physics
巻	:	22
号	:	8
ページ数	:	p.1306 - 1309
発行年月	:	1983/00
発表会議名	:
開催年月	:
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キーワード	:	Stopping Cross Section; He Ion; VdG; A-Si; Rare Gas; MeV

特許データ	:
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論文URL	:	https://doi.org/10.1143/JJAP.22.1306
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Access	:	- Accesses
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InCites™	:	パーセンタイル：11.45 分野：Physics, Applied
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登録番号 : A19833278
抄録集掲載番号 :
論文投稿番号 : 6819

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