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竹本 紀之; 木村 伸明; 花川 裕規; 柴田 晃; 松井 義典; 中村 仁一; 石塚 悦男; 中塚 亨; 伊藤 治彦
JAEA-Review 2013-058, 42 Pages, 2014/02
日本原子力研究開発機構では、将来の原子力人材を確保するための裾野拡大及びその育成を行う観点から、最先端研究基盤JMTR及び関連施設を用いた実践的な体験型研修を平成22年度から実施している。平成25年度は、海外若手研究者・技術者を対象とした「海外若手研究者・技術者のためのJMTRオンサイト研修」を7月8日から7月26日に実施し、国内の若手研究者・技術者を対象とした「最先端研究基盤JMTR及び関連施設を用いた研修講座」を7月29日から8月9日に実施した。研修にはそれぞれ18名の計36名が参加し、基礎講義や体験実習を通してJMTRの運転管理、安全管理、照射試験等の原子力基盤研究・技術について学んだ。本報告は、平成25年度に実施したこれらの研修の内容と結果についてまとめたものである。
綿引 俊介; 花川 裕規; 今泉 友見; 永田 寛; 井手 広史; 小向 文作; 木村 伸明; 宮内 優; 伊藤 正泰; 西方 香緒里; et al.
JAEA-Technology 2013-021, 43 Pages, 2013/07
世界の試験研究炉は、老朽化に伴う廃炉により、その数は減少しているが、原子力発電の導入を計画している国では、原子力人材育成、科学技術の向上、産業利用、軽水炉の安全研究のために、試験研究炉の必要性が高まっている。日本原子力研究開発機構では、平成22年度より試験研究炉設計のための環境整備及び人材育成のため、汎用小型試験研究炉の検討を開始し、平成24年度までに概念検討を行う予定である。平成23年度は、汎用小型試験研究炉の炉心構成の検討、汎用性及び実用性の高い照射設備の検討及びMo製造のためのホットラボ設備の検討を実施した。その結果、炉心構成の検討結果として、照射物を考慮した原子炉の未臨界度及び連続運転時間について確認するとともに自動制御運転中における反応度外乱に対する原子炉の過渡応答について、定格出力運転中の汎用小型試験研究炉は、自動制御運転が十分に可能であることを確認できた。また、照射設備の検討としては、Mo-99のような短半減期ラジオアイソトープの効率的な大量生産の実現が期待できることを確認し、ホットラボ設備の検討においては、Mo製造,RI搬出等を考慮したうえで迅速に試料を配布できるセル・設備を考案した。
今泉 友見; 宮内 優; 伊藤 正泰; 綿引 俊介; 永田 寛; 花川 裕規; 那珂 通裕; 川又 一夫; 山浦 高幸; 井手 広史; et al.
JAEA-Technology 2011-031, 123 Pages, 2012/01
世界の試験研究炉は、老朽化に伴う廃炉により減少しているが、その一方でアジア諸国においては、原子力発電の導入計画が相次いでいる。このようなアジア諸国では、原子力発電所を建設した後の運転管理ができる技術者の育成が課題となっていると同時に、自国における原子力技術を高めるため、軽水炉の長期化対策,科学技術の向上,産業利用及び原子力人材育成のための試験研究炉の必要性が高まっている。このような背景から、照射試験炉センターにおいては、今後、発電用原子炉を導入する国に向け、各種照射利用や教育訓練に用いる試験研究炉の基本概念検討を開始した。設計活動を通じた本検討は、照射試験炉センターにおける試験研究炉の設計に必要な計算コードなどの環境の整備及び人材育成に貢献するとともに、本概念検討に共同研究として参加する原子力関連会社の試験研究炉にかかわる技術力の維持,向上にも貢献することが期待される。本報告は、平成22年度に設置された「照射試験炉センター汎用小型試験研究炉WG(ワーキンググループ)」と原子力関連会社が行った平成22年7月平成23年6月までの試験研究炉の概念検討結果について取りまとめたものである。
橋之口 道宏*; 岡田 美智雄*; 伊藤 裕規*; 笠井 俊夫*; 盛谷 浩右*; 寺岡 有殿
Physical Review Letters, 100(25), p.256104_1 - 256104_4, 2008/06
被引用回数:16 パーセンタイル:64.90(Physics, Multidisciplinary)X線光電子分光法を用いてSi(111)-(77)表面でのNO分子の解離性吸着過程に対する立体効果の表面温度依存性について研究した結果を報告する。ここでのデータは58meVの入射エネルギーではN端衝突の方がO端衝突よりも反応確率が大きいことを示している。さらに、この立体効果は表面温度と被覆率に非常に敏感である。これらの事実はNO分子が狭い前躯状態に過渡的にトラップされることがSi(111)-(7
7)表面でのNOの分解の初期段階で重要な役割を担っていることを示唆している。
橋之口 道宏*; 伊藤 裕規*; 寺岡 有殿; 盛谷 浩右*; 岡田 美智雄*; 笠井 俊夫*
Japanese Journal of Applied Physics, 47(3), p.1672 - 1676, 2008/03
被引用回数:4 パーセンタイル:18.23(Physics, Applied)Si(111)-77表面でのNO分子の解離性吸着を330Kから600Kの表面温度で光電子分光法で研究した。Si(111)-7
7表面でのNOの解離性吸着が温度に大きな依存性を持つことがNO供給量の関数としてのN原子とO原子の吸着曲線から示唆された。表面温度が高くなるにつれてNOの解離性吸着の速度は減少した。これは前躯体の存在を表している。加えて、表面でのN/O比が330Kでは1.0であったが、600Kでは1.2になった。この表面温度とともにN/O比が増加するということは、もうひとつの反応経路が高温で開けることを示唆している。
橋之口 道宏*; 伊藤 裕規*; 寺岡 有殿; 盛谷 浩右*; 岡田 美智雄*; 笠井 俊夫*
no journal, ,
Si(111)-77表面におけるNO分子の解離吸着に対する分子配向効果を研究した。X線光電子分光を適用するために設計した配向分子線装置を用いた。運動エネルギーが58meVの状態選別したNO分子線を400KのSi表面に照射し、酸素と窒素の吸着状態をO1sとN1sの光電子スペクトルとして分析した。N端からの衝突の方が解離吸着した酸素原子の収率が大きいことがわかった。また、ランダム配向のNOの反応では酸素原子の収率はN端衝突とO端衝突の中間となる。よってN端衝突の方がO端衝突に比べてより化学反応性が高いと結論した。
橋之口 道宏*; 岡田 美智雄*; 伊藤 裕規*; 笠井 俊夫*; 盛谷 浩右*; 寺岡 有殿
no journal, ,
われわれは最近Si(111)-77表面でのNO分子の解離性吸着において、配向分子線とX線光電子分光を用いて立体効果を観測した。58meVの並進運動エネルギーのNO分子のうち(1/2,1/2,1/2)状態を選別してSi(111)表面に照射した。吸着種はXPSで分析した。反応はO端衝突よりN端衝突の方が起こりやすいことがわかった。その立体効果は600Kでは非常に小さくなった。この結果は狭い前躯体状態での一時的なトラップがこの表面反応の立体ダイナミクスにおいて鍵となる役割を担っていることを表している。
橋之口 道宏*; 岡田 美智雄*; 伊藤 裕規*; 笠井 俊夫*; 盛谷 浩右*; 寺岡 有殿
no journal, ,
本研究では配向分子線法とX線光電子分光法を併用して、Si(111)-77表面上でのNO分子の解離吸着過程における立体効果について実験した。まずNO分子の超音速分子線を生成した。次に六極不均一電場法によってNO分子の配向を制御した。それによってNO分子をN端からSi(111)表面に衝突させたり、O端から衝突させたり、ランダムに衝突させることができた。照射後の表面の化学組成をX線光電子分光によって分析した。結局、N端衝突の方が解離吸着確率が大きいことが明らかになった。また、温度依存性から前躯体を経由して解離吸着が起こることもわかった。
笠井 俊夫*; 橋之口 道宏*; 岡田 美智雄*; 伊藤 裕規*; 盛谷 浩右*; 寺岡 有殿
no journal, ,
化学反応を原子分子レベルで理解するために、反応分子の立体効果、あるいは、分子配向効果を研究することは非常に重要である。最近Si(111)-77表面にNO分子が解離吸着する反応において、NO分子の配向効果をX線光電子分光による表面分析によって見いだした。N端衝突の方がO端衝突より反応性が大きい。その傾向は表面温度に依存する。NO分子が一時的にSi(111)表面にトラッピングされることを示唆する結果を得た。