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報告書

結晶質岩を対象とした長期岩盤挙動評価のための理論的研究; 2009年度(委託研究)

市川 康明*; Choi, J. H.*; 丹野 剛男; 平野 享*; 松井 裕哉

JAEA-Research 2011-007, 91 Pages, 2011/06

JAEA-Research-2011-007.pdf:8.75MB

結晶質岩の長期挙動を解明するために、古典破壊力学理論を総括し、破壊靱性値以下の荷重状態においても亀裂が進展して破壊に至る亜臨界亀裂進展を取り上げて、力学・化学連成現象の観点からその原因を考察し、花崗岩の長期挙動における亜臨界亀裂進展現象について考察を加えた。また、亜臨界亀裂進展現象の主たる要因である圧縮応力下におけるケイ酸塩鉱物の化学的な溶解現象について、実験室でその現象を再現し、現象の理解を試みた。さらに、これまでの研究内容を総括するとともに、実験結果をもとに、温度溶液(pH)・固体圧力と溶液の間隙水圧を変数とした石英に対する溶解速度式を提案した。

報告書

結晶質岩を対象とした長期岩盤挙動評価のための理論的研究(委託研究)

市川 康明*; Choi, J. H.*; 平野 享; 松井 裕哉

JAEA-Research 2009-027, 48 Pages, 2009/10

JAEA-Research-2009-027.pdf:3.75MB

高レベル放射性廃棄物の地層処分では長期に渡る坑道の安定性評価が必要となる。そこで岩盤の長期挙動を予測評価する手法の研究を行ってきた。本報告書は、平成20年度の研究成果をとりまとめたものである。第1章では研究内容と背景を概括した。第2章では、結晶質岩石の微視レベルの破壊機構に深くかかわる各鉱物の圧縮応力下の化学反応による溶解現象を確認するため、石英単結晶供試体を用いた圧縮試験を試み、溶解及び再沈殿した石英表面の形状を共焦点レーザー走査型顕微鏡で観察し、各種条件下での溶解速度を算定した。なお、本試験はpH調整済の閉鎖溶液中と、pH調整済の溶液が流下する開放溶液中での2種類を実施した。次に、花崗岩の長期挙動として認められるクリープ現象や応力緩和現象の原因が微視的な亀裂伝播であることは明らかであるが、微視的な亀裂の伝播の基本メカニズムは不明である。そこで第3章では、第2章で扱った現象と同様の力学・化学連成現象が、ケイ酸塩鉱物中に存在する微視的な亀裂の先端の応力集中により起こるものと考え、これを踏まえて巨視的現象のメカニズムを解析するための理論を展開した。

論文

Measurement of the electron density produced by the prepulse in an experiment of high energy proton beam generation

Jeong, T.*; Choi, I. W.*; Sung, J. H.*; Kim, H.*; Hong, K.*; Yu, T.*; Kim, J.-H.*; Noh, Y.*; Ko, D.-K.*; Lee, J.*; et al.

Journal of the Korean Physical Society, 50(1), p.34 - 39, 2007/01

https://doi.org/10.3938/jkps.50.34

高強度レーザーと物質との相互作用により、高エネルギー粒子(イオン,電子)やX線が生成される。ここで発生した高エネルギー粒子等は、さまざまな応用が提案されテーブルトップの量子ビーム源として注目されている。このような高強度レーザーと物質との相互作用の物理過程を調べるうえで、レーザーのプリパルスによって生成されるプリプラズマを評価しておく必要がある。実験は、チタンサファイアレーザーを集光用のポンプ光と計測用のプローブ光に分け、ポンプ光をタンタルターゲットに照射し、発生するプリプラズマをプローブ光の干渉計測によって測定した。干渉縞はバイプリズムを用いてレーザービームの波面を傾けることによって生成した。ポンプ光とプローブ光の時間差を調整することにより、メインパルス前でのプリプラズマの測定を行った。計測されたプリプラズマ条件は、高エネルギープロトン等の発生メカニズムの解析に有効な情報を与える。

論文

Stability of a silica membrane prepared by CVD using $$gamma$$- and $$alpha$$-alumina tube as the support tube in the Hi-H$$_{2}$$O gaseous mixture

Hwang, G.*; Kim, J.*; Choi, H.*; 小貫 薫

Journal of Membrane Science, 215(1-2), p.293 - 302, 2003/04

https://doi.org/10.1016/S0376-7388(03)00022-X
 被引用回数：16 パーセンタイル：55.56(Engineering, Chemical)

熱化学水素製造法ISプロセスへの応用を目的として、CVD法によって作製したシリカ系水素分離膜のHi-H$$_{2}$$O気相環境における安定性を調べた。平均細孔径10nmの$$gamma$$-アルミナ多孔体、また、平均細孔径100nmの$$alpha$$-アルミナ多孔体を基膜として、TEOSを前駆体とするCVDによって、シリカ膜を作製し、450$$^{circ}$$C,1気圧の条件下で、Hi-H$$_{2}$$O混合ガス雰囲気に約350時間暴露した。CVD条件を変えて数種の膜を作製したが、多くの膜は、暴露時間の経過とともに水素透過速度の増大と水素選択性の低下を示した。しかし、$$alpha$$アルミナを基体とする膜は、$$gamma$$アルミナを基体とする膜に比べて透過特性の変化が少なく、比較的高い安定性を示した。

口頭

Simultaneous imaging with a proton beam and an X-ray driven by a fs-intense laser

織茂 聡; 余語 覚文; 小倉 浩一; 匂坂 明人; 森 道昭; 桐山 博光; 近藤 修司; 山本 洋一*; 下村 拓也*; 田上 学*; et al.

no journal, , 

高強度超短パルスレーザーを薄膜に照射することによって生成されるMeV級の陽子生成と、その応用研究を発表する。実験は原子力機構と韓国光州科学技術研究所で行った。照射レーザーは直径50mmで、p偏光,45度,焦点距離238mm(Fナンバー4.8)で照射強度3$$sim$$9$$times$$10$$^{18}$$W/cm$$^{2}$$である。ターゲットは銅テープ(5$$mu$$m厚)とポリミド(7.5$$mu$$m)を使用した。ニッケルのメッシュパターンを、陽子イメージはCR39を使用し、X線イメージはイメージングプレートを使用し測定した。

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