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口頭

放射光O1s光電子分光で観た超音速O$$_2$$分子線照射によるNi(111)の室温酸化反応

川上 泰典; 寺岡 有殿; 吉越 章隆; Harries, J.

no journal, , 

並進運動エネルギーが0.03eV(ガス吸着条件)から2.3eVまでの酸素分子によるNi(111)表面酸化反応過程について、O1s光電子スペクトルの時間発展を観察し、そのプロファイルに並進運動エネルギーによる明瞭な差異を見いだした。酸素分子線照射(2.3eV)と酸素ガス暴露条件(0.03eV)でのO1s放射光光電子スペクトルの時間発展を比較すると、双方で共通して成分ピーク(吸着サイト)が少なくとも3か所あると推測される。各成分ピーク(吸着サイト)の生成率は酸素被覆率に依存している。特に、531.5eV付近の結合エネルギーに対応する成分ピークの生成に運動エネルギーの影響が大きい。このピークは0.03eVで顕著であることから、物理吸着を経由して形成される吸着サイトであることが示唆される。

口頭

放射光O1s光電子分光法によるNi(111)表面酸化反応ダイナミクスのその場観察

川上 泰典; 寺岡 有殿; 吉越 章隆; Harries, J.

no journal, , 

並進運動エネルギーが0.03eV(ガス吸着条件)から2.3eVまでの酸素分子線によるNi(111)表面酸化反応過程について、放射光O1s光電子スペクトルの時間発展を観察し、そのプロファイルに並進運動エネルギーによる明瞭な差異を見いだした。O1s光電子スペクトルから得られた酸素吸着曲線から、並進運動エネルギー1.31eV, 2.3eVではガス吸着条件での吸着曲線とは異なることから、酸化反応メカニズムが異なることが示唆される。特に2.3eVでは初期吸着確率が他の並進運動エネルギーの場合に比べ増大していることから、初期酸化の段階で酸素のNiO層への直接吸着が促進されたことが考えられる。また、529.03eV付近の結合エネルギーに対応する成分ピークの生成に運動エネルギーの影響が大きく現れた。

口頭

Induced oxidation on Ni(111) by kinetic energy of O$$_{2}$$ molecular beams

寺岡 有殿; 川上 泰典; 吉越 章隆; Harries, J.; 平谷 篤也*

no journal, , 

超音速酸素ビームで酸化したNi(111)上の酸素の化学結合状態を低エネルギー電子回折と放射光光電子分光で分析した。O$$_{2}$$照射初期の酸素吸着構造は3配位fcc近接サイトである。Ni(111)の酸化層は、O$$_{2}$$の入射エネルギーと供給量に依存するが、過酸化物,亜酸化物,NiOからできていることが見いだされた。入射エネルギーが0.6eVのとき、酸素吸着構造は初期には3配位fcc近接サイトであるが、亜酸化物と過酸化物を経て最終的にはNiO構造に変化する。それは入射エネルギーにかかわりなくNiO(111)である。入射エネルギーが大きくなるとNiO生成は低供給量でも起こり、3配位fcc近接サイトは初期段階から減少する。特に2.3eVでは極めて初期のNiO生成に有効であった。これはエネルギーの大きなO$$_{2}$$によるNi(111)の酸化では活性化吸着過程が起こることを意味している。

口頭

Kinetic energy effects on initial sticking of O$$_{2}$$ molecular beams on Ni(111) surface

寺岡 有殿; 井上 敬介*; 川上 泰典*; 平谷 篤也*

no journal, , 

本研究ではNi(111)表面を超音速酸素分子線を用いて酸化し、放射光光電子分光で表面酸化状態を観察した。超音速酸素分子線照射と放射光光電子分光(SR-XPS)観察を繰り返した。照射から測定の一連の実験は室温下で行った。放射光のエネルギーは680eVとした。Ni2pとO1sの内殻光電子スペクトルを測定した。各運動エネルギーごとに初期吸着曲線を測定した。酸素分子の入射エネルギーが0.6eVから2.0eVの領域では、初期吸着確率は変化せず、2.0eVを超えると急激に増加した。2.0eVに吸着反応のしきい値が存在することを見いだした。

口頭

超音速O$$_{2}$$分子線によるNi(111)表面の酸素初期吸着確率の運動エネルギー依存性

井上 敬介*; 寺岡 有殿; 川上 泰典*; 平谷 篤也*

no journal, , 

本研究では、Ni(111)表面を超音速酸素分子線を用いて酸化し、放射光光電子分光で表面酸化状態を観察した。一連の測定は室温下で行った。超音速酸素分子線を照射し、放射光エネルギーを680eVとして、Ni3pとO1sの内殻光電子スペクトルを測定した。それを繰り返すことで、各分子線運動エネルギーにおける初期吸着曲線を測定した。酸素分子線の入射エネルギーが約1.0eVまで初期吸着速度は増大したが、それから2.2eVまで若干の減少がみられ、2.3eVでは再び急激に増大した。これらの結果から新たな吸着機構の存在を見いだした。

口頭

Ni(111)表面の超音速O$$_{2}$$分子線による初期吸着確率の運動エネルギー依存性

井上 敬介*; 寺岡 有殿; 川上 泰典*; 平谷 篤也*

no journal, , 

Ni(111)表面を超音速酸素分子線を用いて酸化し、放射光光電子分光で表面酸化状態を観察した。一連の測定は室温下で行った。超音速酸素分子線を照射し、放射光エネルギーを680eVとして、Ni3pとO1sの内殻光電子スペクトルを測定した。サンプルの表面温度が300Kの状態で一連の測定を行った。それを繰り返すことで、各分子線運動エネルギーにおける初期吸着曲線を測定した。初期吸着確率は0.3eVから1.0eVまでは増加し、2.2eVまではわずかに減少した。そして、照射エネルギー2.3eVの時急激に増加した。これらの結果は、二つのポテンシャル障壁の存在を示している。

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