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口頭

Induced oxidation on Ni(111) by kinetic energy of O$$_{2}$$ molecular beams

寺岡 有殿; 川上 泰典; 吉越 章隆; Harries, J.; 平谷 篤也*

no journal, , 

超音速酸素ビームで酸化したNi(111)上の酸素の化学結合状態を低エネルギー電子回折と放射光光電子分光で分析した。O$$_{2}$$照射初期の酸素吸着構造は3配位fcc近接サイトである。Ni(111)の酸化層は、O$$_{2}$$の入射エネルギーと供給量に依存するが、過酸化物,亜酸化物,NiOからできていることが見いだされた。入射エネルギーが0.6eVのとき、酸素吸着構造は初期には3配位fcc近接サイトであるが、亜酸化物と過酸化物を経て最終的にはNiO構造に変化する。それは入射エネルギーにかかわりなくNiO(111)である。入射エネルギーが大きくなるとNiO生成は低供給量でも起こり、3配位fcc近接サイトは初期段階から減少する。特に2.3eVでは極めて初期のNiO生成に有効であった。これはエネルギーの大きなO$$_{2}$$によるNi(111)の酸化では活性化吸着過程が起こることを意味している。

口頭

Kinetic energy effects on initial sticking of O$$_{2}$$ molecular beams on Ni(111) surface

寺岡 有殿; 井上 敬介*; 川上 泰典*; 平谷 篤也*

no journal, , 

本研究ではNi(111)表面を超音速酸素分子線を用いて酸化し、放射光光電子分光で表面酸化状態を観察した。超音速酸素分子線照射と放射光光電子分光(SR-XPS)観察を繰り返した。照射から測定の一連の実験は室温下で行った。放射光のエネルギーは680eVとした。Ni2pとO1sの内殻光電子スペクトルを測定した。各運動エネルギーごとに初期吸着曲線を測定した。酸素分子の入射エネルギーが0.6eVから2.0eVの領域では、初期吸着確率は変化せず、2.0eVを超えると急激に増加した。2.0eVに吸着反応のしきい値が存在することを見いだした。

口頭

超音速O$$_{2}$$分子線によるNi(111)表面の酸素初期吸着確率の運動エネルギー依存性

井上 敬介*; 寺岡 有殿; 川上 泰典*; 平谷 篤也*

no journal, , 

本研究では、Ni(111)表面を超音速酸素分子線を用いて酸化し、放射光光電子分光で表面酸化状態を観察した。一連の測定は室温下で行った。超音速酸素分子線を照射し、放射光エネルギーを680eVとして、Ni3pとO1sの内殻光電子スペクトルを測定した。それを繰り返すことで、各分子線運動エネルギーにおける初期吸着曲線を測定した。酸素分子線の入射エネルギーが約1.0eVまで初期吸着速度は増大したが、それから2.2eVまで若干の減少がみられ、2.3eVでは再び急激に増大した。これらの結果から新たな吸着機構の存在を見いだした。

口頭

Ni(111)表面の超音速O$$_{2}$$分子線による初期吸着確率の運動エネルギー依存性

井上 敬介*; 寺岡 有殿; 川上 泰典*; 平谷 篤也*

no journal, , 

Ni(111)表面を超音速酸素分子線を用いて酸化し、放射光光電子分光で表面酸化状態を観察した。一連の測定は室温下で行った。超音速酸素分子線を照射し、放射光エネルギーを680eVとして、Ni3pとO1sの内殻光電子スペクトルを測定した。サンプルの表面温度が300Kの状態で一連の測定を行った。それを繰り返すことで、各分子線運動エネルギーにおける初期吸着曲線を測定した。初期吸着確率は0.3eVから1.0eVまでは増加し、2.2eVまではわずかに減少した。そして、照射エネルギー2.3eVの時急激に増加した。これらの結果は、二つのポテンシャル障壁の存在を示している。

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