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論文

Spectroscopic measurements of high frequency plasma in supercritical carbon dioxide

前原 常弘*; 川嶋 文人*; 岩前 敦; 向笠 忍*; 竹森 俊彦*; 渡辺 高志*; 黒河 賢哉*; 豊田 洋通*; 野村 信福*

Physics of Plasmas, 16(3), p.033503_1 - 033503_5, 2009/03

 被引用回数:13 パーセンタイル:45.06(Physics, Fluids & Plasmas)

Spectroscopic measurements of high frequency (hf) plasma were performed under high pressure conditions (5 and 7 MPa) and supercritical (sc) CO$$_{2}$$ conditions ($$8sim20$$ MPa). Temperature evaluated from C$$_{2}$$ Swan bands ($$d,^3Pi_g rightarrow a,^3Pi_u$$) increased from 3600 to 4600 K with an increase in pressure. The first observation of broadening and shifting of the O I line profile ($$3{rm s},^5{rm S}_2^o leftarrow 3{rm p},^5{rm P}_{3,2,1}$$) of hf plasma under sc CO$$_{2}$$ concisions was carried out. However, the origin of broadening and the shifting cannot be understood because the present theory explaining them is not valid for such high pressure conditions.

報告書

オージェ電子分光装置を利用した壁材の2次電子放出率の測定

廣木 成治; 阿部 哲也; 竹森 信*; 池田 佳隆; 村上 義夫

JAERI-M 85-123, 23 Pages, 1985/08

JAERI-M-85-123.pdf:0.71MB

オージュ電子分光装置を用いて、SUS304、モリブデン、銅、黒鉛、炭化チタンの2次電子放射率を、1次電子エネルギー0~1.5KeVの範囲で測定した。2次電子放出率は、材料の表面組成と密接な関係があり、各種表面処理(ベーキング、アルゴンイオンエッチング、メタングロー放電等)により大きく変化することがわかった。これらの結果に基づき、JT-60高周波加熱用導波管内壁の2次電子放出率の低減化対策を検討した。

論文

高周波による表面清浄化試験

廣木 成治; 竹森 信*; 阿部 哲也; 小原 建治郎; 中村 和幸; 村上 義夫

真空, 28(5), p.300 - 303, 1985/00

真空容器内の表面清浄化促進のため、無放電状態でマイクロ波(2.45GHz)を入射した。実験は、真空試験装置(JVX-I)を使って行った。マイクロ波導入窓には、コバールガラス製ビューイングポートを用い、マイクロ波入射の有無による圧力変化の比較、放出ガス成分、マイクロ波入射中の大気側器壁温度等について調べた。排気を始めてから24時間経過した後の到達圧力は、マイクロ波(最大1.5KW)を約7時間入射することにより、1桁程度向上している。この時、真空容器の大気側壁温は、最大120$$^{circ}$$Cに達している。また、マイクロ波入射時の突発的な圧力上昇に対応してH$$_{2}$$はじめCO,CO$$_{2}$$等の分圧は同様に増加するが、H$$_{2}$$O分圧は逆に減少している。マイクロ波入射による効果として、壁のマイクロ波電力吸収による加熱脱ガス、吸着ガス分子とマイクロ波電磁界との相互作用による脱離、解離、電離等が考えられる。

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