/4H-SiC(0001) interface/4H-SiC(0001)界面のSIMS分析山下 健也*; 北畠 真*; 楠本 修*; 高橋 邦匡*; 内田 正男*; Miyanaga, Ryoko*; 伊藤 久義; 吉川 正人
Yamashita, Kenya*; Kitabatake, Makoto*; Kusumoto, Osamu*; Takahashi, Kunimasa*; Uchida, Masao*; Miyanaga, Ryoko*; Ito, Hisayoshi; Yoshikawa, Masahito
高温酸素中で炭化ケイ素(SiC)表面に酸化膜(SiO)を作製すると、酸化膜と炭化ケイ素の界面(SiO/SiC界面)には、界面中間層と呼ばれる酸化膜でも炭化ケイ素でもない層が形成されることが知られている。この層には炭素が多量に存在しており、MOS構造を形成したときの界面準位発生の原因になっていると考えられている。今回の発表では、水素燃焼酸化法を用いて4H-SiC表面に作製した酸化膜に水蒸気アニーリングを施した試料と施さない試料について、それぞれの酸化膜中の炭素濃度を二次イオン質量分析(SIMS)法によって分析し、炭素の酸化膜内部の深さ方向分布を調べた。その結果、水蒸気アニーリングを施した試料からは多量の炭素が検出されたが、施さなかった試料からは検出されなかった。このことから、酸化によって発生した界面中間層の内部に存在する炭素が、水蒸気アニーリングによって酸化され、酸化膜内部に再分布する可能性が示唆された。
no abstracts in English
使用言語 |
: | English |
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掲載資料名 |
: | |
巻 |
: | 389-393 |
号 |
: | |
ページ数 |
: | p.1037 - 1040 |
発行年月 |
: | 2002/00 |
発表会議名 |
: | International Conference of Silicon Carbide and Related Materials 2001 (ICSCRM2001) |
開催年月 |
: | 2001/10 |
開催都市 |
: | Tsukuba |
開催国 |
: | Japan |
キーワード |
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論文URL |
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論文解説記事 |
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受委託・共同研究相手機関 |
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Access |
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- Accesses |
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パーセンタイル：16.11 分野：Materials Science, Multidisciplinary |
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