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Temperature dependence of heavy ion induced current transients in Si epilayer devices

シリコンエピデバイスにおける重イオン誘起過渡電流の温度依存性

Laird, J. S.; 平尾 敏雄; 小野田 忍; 森 英喜; 伊藤 久義

Laird, J. S.; Hirao, Toshio; Onoda, Shinobu; Mori, Hidenobu; Ito, Hisayoshi

15MeV酸素イオンによりシリコンエピpn接合ダイオードに誘起される過渡電流の観測を80Kから300Kの温度範囲で行った。照射時温度80Kでは300K(室温)と比較した場合、過渡電流波形のピーク高さは約2.5倍,立下り時間は約1ns短くなっていることがわかった。一方、収集電荷量は温度によらずほぼ一定である結果が得られた。また、TCADシュミレーションにわれわれ独自の温度効果モデルを取り入れることで実験で得られた過渡電流の温度依存性を再現できることが確認できた。

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