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Substrate effects on the growth of epitaxial BaTiO$$_{3}$$ thin films

チタン酸バリウム薄膜における基板効果

米田 安宏*; 岡部 達*; 阪上 潔*; 寺内 暉*

Yoneda, Yasuhiro*; not registered; Sakaue, Kiyoshi*; Terauchi, Hikaru*

120$$^{circ}$$C付近で常誘電体-強誘電体相転移を起こすチタン酸バリウムは種々の方法で薄膜化が試みられている。なかでも原子層オーダーで成膜コントロールが可能な反応性蒸着法は、チタン酸バリウムを薄膜化する際に生じる基板効果をエンハンストさせることが期待される。誘電体薄膜における基板効果を明らかにするために異なるミスマッチの基板上に同じ成長条件で薄膜を成長させ、成長中のRHEEDによるその場観察、及び成長後に行ったX線回折により、その違いを調べた。

no abstracts in English

使用言語

 :

English

掲載資料名

 :

Journal of the Korean Physical Society

巻

 :

32

号

 :

ページ数

 :

p.S1393 - S1396

発行年月

 :

1998/02

発表会議名

 :

開催年月

 :

開催都市

 :

開催国

 :

キーワード

 :

チタン酸バリウム; エピタキシャル成長; 基板効果; RHEED; X線回折

特許データ

 :

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論文URL

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