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Growth of ultrathin BaTiO$$_{3}$$ films on SrTiO$$_{3}$$ and MgO substrates

チタン酸バリウム薄膜のSrTiO$$_{3}$$及びMgO基板上への成長

米田 安宏*; 岡部 達*; 阪上 潔*; 寺内 暉*

Yoneda, Yasuhiro*; not registered; Sakaue, Kiyoshi*; Terauchi, Hikaru*

BaTiO$$_{3}$$は酸化物であるために通常のMBE法では単結晶薄膜は得られない。マテリアルが蒸気圧の低いBaと、反対に蒸気圧の高いTiを組合せなければならないことと、酸素雰囲気中で反応させなければならないために、成長条件のコントロールが難しい。さらにBaとTiでは酸化力が異なるために、Ba,Ti,Oの成分比を一定に保たせるのにも、困難を伴う。この問題をBaとTiを交互にとばすことによってBaO層とTiO$$_{2}$$層を交互に積層させ、BaTiO$$_{3}$$を得るということで解決した。酸化物薄膜は、結合力がイオン性結合であるために、基板とのミスマッチに非常に敏感であるが、この方法を用いることによって、格子整合条件の良好なSrTiO$$_{3}$$基板にも、格子整合条件の厳しいMgO基板にも単結晶薄膜を成長することができた。

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分野:Chemistry, Physical

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