ion source奥村 義和; 花田 磨砂也; 井上 多加志; 水野 誠; 小原 祥裕; Pamela, J.*; 鈴木 靖生*; 田中 秀樹*; 渡邊 和弘
Okumura, Yoshikazu; Hanada, Masaya; Inoue, Takashi; Mizuno, Makoto; Ohara, Yoshihiro; Pamela, J.*; Suzuki, Yasuo*; Tanaka, Hideki*; Watanabe, Kazuhiro
ソースプラズマの閉じ込めを改善した大型負イオン源にごく少量のセシウムを添加することにより、負イオン源の運転ガス圧を大きく低下させることに成功した。体積生成型負イオン源においては、負イオン電流値を最大にする最適な運転ガス圧が存在し、それ以下のガス圧では負イオン電流値は急激に減少してしまう。しかしながらプラズマの閉じ込めを改善し、かつ、セシウムを添加することにより、最適ガス圧を1~2Paから、0.4Pa程度に、また負イオン電流が70%低下することを許容すれば、0.03Paまで下げることが出来た。この超低ガス圧の領域では、対電は蒸発したごく少量のセシウムにより維持されていることがわかった。
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使用言語 |
: | English |
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掲載資料名 |
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巻 |
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号 |
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ページ数 |
: | p.35 - 40 |
発行年月 |
: | 1991/00 |
発表会議名 |
: | 4th European Workshop on the Production and Application of Light Negative Ions |
開催年月 |
: | 1991/03 |
開催都市 |
: | America |
開催国 |
: | |
キーワード |
: | Negative Ion Source; Cesium; Multicusp; Gas Pressure; Volume Production; Reduction; Neutral Beam Injector; Fusion |
論文URL |
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論文解説記事 |
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Access |
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Altmetrics |
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