A Review of JAERI R&D activities on the negative-ion-based neutral beam injection system

原研における負イオンを用いた中性粒子入射装置に関するR&Dの概要

小原 祥裕; 秋場 真人; 荒木 政則; 大楽 正幸; 花田 磨砂也; 井上 多加志; 小島 啓明; 栗山 正明; 松田 恭博*; 松岡 守; 水野 誠; 奥村 義和; 関 昌弘; 田中 茂; 渡邊 和弘; 横山 堅二

Ohara, Yoshihiro; Akiba, Masato; Araki, Masanori; Dairaku, Masayuki; Hanada, Masaya; Inoue, Takashi; Kojima, Hiroaki; Kuriyama, Masaaki; not registered; Matsuoka, Mamoru; Mizuno, Makoto; Okumura, Yoshikazu; Seki, Masahiro; Tanaka, Shigeru; Watanabe, Kazuhiro; not registered

過去数年にわたり、負イオンを用いた中性粒子入射装置を実現するための研究開発を強力に実施してきた。特に、最も重要な開発項目である大電流負イオン源に関しては、50keVで10Aの水素負イオンを生成することに成功した。得られた負イオンビーム電流及び電流密度は、すでに負イオンNBIシステムで必要とされる値に達している。この様に、負イオンを用いた中性粒子入射装置に関するR&Dはここ数年で大きな進歩を遂げた。現在、500keV級NBIシステムの建設は技術的に可能となりつつある。

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