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Electronic structures of ultra-thin silicon carbides deposited on graphite

内殻分光法による炭化ケイ素超薄膜の電子構造に関する研究

馬場 祐治  ; 関口 哲弘  ; 下山 巖   ; Nath, K. G.

Baba, Yuji; Sekiguchi, Tetsuhiro; Shimoyama, Iwao; Nath, K. G.

炭化ケイ素(SiC)は耐熱性,化学的安定性を持つワイドギャップ半導体としての応用が期待されている材料である。しかしSiC結晶はsp$$^{3}$$結合でできており固体表面では3次元的に成長するため、数原子層以下の薄膜化は難しい。しかし最近、sp$$^{2}$$結合でできたグラファイト状の構造を持つSiC単原子層が安定に存在するという理論計算が報告された。本研究はこれを実験的に確かめるため、グラファイト単結晶表面にイオンビーム蒸着法で作成した単原子層以下のSiCの構造をX線光電子分光法(XPS),X線吸収微細構造法(XANES)などの放射光を用いた内殻分光法で調べた。その結果、XPSの化学シフト及びXANESのピークエネルギーなどから、バルクのSiCと異なる構造を持つ二次元状SiCの存在を示唆する結果が得られた。また、XANESスペクトルの偏光依存性から、この二次元相がグラファイトと類似の構造を持つことが明らかとなった。

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パーセンタイル:42.35

分野:Chemistry, Physical

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