adsorption and SiO desorption by incident energy of O molecules in the O/Si(001) surface reaction system/Si(001)表面反応系におけるO分子の運動エネルギーによるO吸着とSiO脱離の制御Teraoka, Yuden; Yoshigoe, Akitaka; Moritani, Kosuke
Si(001)表面の酸素分子による酸化反応には酸化膜の形成とSiO分子の脱離の二つの反応様式がある。われわれは酸素分子の並進運動エネルギーを変化させることによって、二つの反応様式を選択できることを見いだした。それに関する2002年の研究について報告する。
There are two surface chemical reaction modes in the O/Si(001) system, that is, oxide-layers formation and SiO desorption. We have found that these reaction modes could be selected by changing translational kinetic energy of incident O molecules.
使用言語 |
: | English |
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掲載資料名 |
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巻 |
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号 |
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ページ数 |
: | p.68 - 70 |
発行年月 |
: | 2003/00 |
キーワード |
: | Si(001); O |
論文URL |
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使用施設 |
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論文解説記事 |
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