/ZnO films by pulsed laser deposition/ZnO膜の作製Yamamoto, Shunya; Choi, Y.; Umebayashi, Tsutomu; Yoshikawa, Masahito
二酸化チタン(TiO)は優れた光触媒材料であるが、薄膜状で利用する場合には、表面の微結晶化による表面積の増大及び結晶性の向上が必要とされている。本研究では、表面積の増大及び結晶性の向上を目的に酸化亜鉛(ZnO)をバッファー層に利用した高配向性二酸化チタン膜の形成条件について調べた。酸化亜鉛及び二酸化チタン膜は、低圧酸素雰囲気下でレーザー蒸着法により石英,シリコン,
-AlO
などの基板上に作製し、走査型電子顕微鏡観察,X線回折,ラザフォード後方散乱により構造評価を行った。蒸着中の基板温度が約500
Cで、基板上に大きさが数
数十ナノメータの(0001)面に結晶配向した酸化亜鉛の微結晶から成る膜が得られ、さらにこの膜上に(001)面及び(100)面に結晶配向したアナターゼ及びルチル型二酸化チタンの微結晶から成る膜を形成することができた。また、有機色素の分解により光触媒性を評価した結果では、基板に直接二酸化チタンを成膜した試料よりも高い光触媒性が得られ、微結晶化による表面積の増大及び高配向性結晶の形成により光触媒性を向上させることができた。
no abstracts in English
使用言語 |
: | English |
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掲載資料名 |
: | |
巻 |
: | 29 |
号 |
: | 6 |
ページ数 |
: | p.2701 - 2704 |
発行年月 |
: | 2004/00 |
発表会議名 |
: | 8th IUMRS International Conference on Advanced Materials (IUMRS-ICAM 2003) |
開催年月 |
: | 2003/10 |
開催都市 |
: | Yokohama |
開催国 |
: | Japan |
キーワード |
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論文URL |
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使用施設 |
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論文解説記事 |
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Access |
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Altmetrics |
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