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Local bonding states of ion-irradiated graphite characterized by photon-stimulated desorption (PSD) spectroscopy

イオン照射化グラファイトの光刺激脱離分光法による局所結合状態解析

関口 哲弘; 馬場 祐治; 下山 巖; Nath, K. G.

Sekiguchi, Tetsuhiro; Baba, Yuji; Shimoyama, Iwao; Nath, K. G.

表面における配向を化学結合種ごとに分析する新しい実験手法を開発した。偏光NEXAFS法はX線吸収スペクトル測定により表面の結合状態や配向方向を決定する手法である。軟X線領域ではX線吸収測定のためには通常全電子収量を測定する。本研究においては放射光励起に起因する脱離イオンの質量分析を行い、X線励起エネルギー依存性及びその偏光依存性を測定することにより個々の化学結合について配向解析を行う実験を試みた。系としては核融合第一壁において重要とされる重水素イオン照射グラファイトを用い、脱離するH$$^{+}$$及びD$$^{+}$$イオンを観測した。また高配向グラファイト単結晶を出発物質として使い照射による配向の乱れを観測した。電子収量はC-HとC-Dの平均構造を与えるのに対し、D$$^{+}$$収量は照射により生じたC-D結合周辺のみの局所構造を与える。H$$^{+}$$は未照射領域のC-H結合の情報を与える。

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パーセンタイル:80.13

分野:Spectroscopy

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