Radiation and anneal hardening in vanadium

バナジウムの照射と熱処理による硬化

Shiraishi, K.; not registered; Katano, Y.

中性子照射(高速中性子量:8.210 $^{1}$ $^{9}$ n/cm $^{2}$ ,照射温度:約200 $^{circ}$ C)したバナジウムの室温における機械的性質の変化を、照射と照射後の熱処理による電子顕微組織の変化と関連して、調べた。照射後400 $^{circ}$ C以下の温度で熱処理した試料を室温で引っ張るとdislocation channelingsが観られる。このdislocation channelingsは10 $^{1}$ $^{6}$ ヶ/cm $^{3}$ のオーダーの密度の小さな転位ループをもった試料に認められる。照射後180~600 $^{circ}$ Cの温度で熱処理をした試料は硬化するが、これはバナジウム中に不純物として含まれている酸素の集合体と関係していると考えられる。照射によって生じたこれらの硬化は700 $^{circ}$ C、1時間の熱処理によってほぼ照射前の状態に回復する。

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使用言語	:	English
掲載資料名	:	Journal of Nuclear Materials
巻	:	44
号	:	2
ページ数	:	p.228 - 238
発行年月	:	1972/02
発表会議名	:
開催年月	:
開催都市	:
開催国	:
キーワード	:	Vanadium; Anneal hardening; Radiation

特許データ	:
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論文URL	:	https://doi.org/10.1016/0022-3115(72)90100-6
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登録番号 : A19711429
抄録集掲載番号 :
論文投稿番号 : 3401

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