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Radiation and anneal hardening in neutron-irradiated vanadium

中性子照射したバナジウムの照射および燒鈍硬化

白石 健介; 深谷 清; 片野 吉男

Shiraishi, K.; not registered; Katano, Y.

バナジウムをJRR-2またはJRR-4を用いて2.0$$times$$10$$^{1}$$$$^{7}$$~1.0$$times$$10$$^{2}$$$$^{0}$$n/cm$$^{2}$$の範囲の高速中性子(En≧lMeV)照射を行った。室温における照射硬化は中性子照射量が約2.5$$times$$10$$^{1}$$$$^{9}$$n/cm$$^{2}$$までの範囲では照射量の1/2乗に比例する。照射量が多くなると照射硬化量は約25kg/mm$$^{2}$$でほぼ一定の値を示すと考えられる。照射量の低い試料(2.0$$times$$10$$^{1}$$$$^{7}$$および1.0$$times$$10$$^{1}$$$$^{8}$$n/cm$$^{2}$$照射)では磽鈍硬化の現象がはっきりと観察される。この現象は中性子照射によって生じた格子欠陥の集合体の分布状態の変化と密接な関係がある。照射量が1.0$$times$$10$$^{2}$$$$^{0}$$n/cm$$^{2}$$の試料では、照射硬化は照射後の熱処理温度の上昇とともに単調に減少する。すなわち磽鈍硬化の減少は認められない。この実験で観られた硬化に対して電子顕微鏡では観察できない小さな格子欠陥集合体が重要な役割を果たしている。

no abstracts in English

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