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Study of Langmuir-Blodgett films for KrF excimer laser resist

Krエキシマー・レジスト用の累積膜の研究

小川 一文*; 田村 秀治*; 畑田 元義; 石原 健*

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光感受性累積膜の製作及び微細パターンの作製を目的として5種類のジアセチレン誘導体の累積膜を作製し、KrFエキシマーレーザー光による光化学反応の研究を行った。これらの累積膜のうちで、ベンタジイノイツク酸について最も好結果が得られ、0.3$$mu$$mの分解能が得られた。このパターン生成は、1,4位置における架橋によって起こるものと考えられる。

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パーセンタイル:54.15

分野:Chemistry, Multidisciplinary

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