田口 光正; 早野 一樹*; Xu, Y.; 森山 正洋*; 小林 泰彦; 平塚 浩士*; 大野 新一*
Taguchi, Mitsumasa; Hayano, Kazuki*; Xu, Y.; Moriyama, Masahiro*; Kobayashi, Yasuhiko; Hiratsuka, Hiroshi*; Ono, Shinichi*
フェニルアラニン水溶液へNeイオン照射を行い、OHラジカルとフェニルアラニンとの反応によって生成する3種類のチロシンをHPLCによって定量分析した。イオンが止まるまでの全チロシン生成量と、入射エネルギーとの関係から微分G値(イオンのエネルギーとともに連続的に変化するG値)が求められた。微分G値は300~500eV/nmのLETでは
線よりも大きな値を示すが、LETの増加に伴いその値が減少することがわかった。
no abstracts in English
使用言語 |
: | English |
|---|---|---|
掲載資料名 |
: | |
巻 |
: | 60 |
号 |
: | 4-5 |
ページ数 |
: | p.263 - 268 |
発行年月 |
: | 2001/03 |
発表会議名 |
: | International Symposium on Prospects for Application of Radiation towards the 21st Century |
開催年月 |
: | 2000/03 |
開催都市 |
: | Tokyo |
開催国 |
: | Japan |
キーワード |
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論文URL |
: |
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論文解説記事 |
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Access |
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- Accesses |
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InCites™ |
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パーセンタイル：73.21 分野：Chemistry, Physical |
Altmetrics |
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