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Development of a two-color interferometer for observing wide range electron density profiles with a femtosecond time resolution

ファムト秒時間分解広範囲電子密度計測のための二波長干渉計の開発

匂坂 明人; Pirozhkov, A. S.; 大道 博行; 福見 敦*; Li, Z.*; 小倉 浩一; 余語 覚文; 大石 祐嗣*; 名雪 琢弥*; 藤井 隆*; 根本 孝七*; 織茂 聡; 高井 満美子; 林 由紀雄; 森 道昭; 加道 雅孝; 中村 衆*; 野田 章*; Choi, I. W.*; Sung, J. H.*; Ko, D.-K.*; Lee, J.*

Sagisaka, Akito; Pirozhkov, A. S.; Daido, Hiroyuki; Fukumi, Atsushi*; Li, Z.*; Ogura, Koichi; Yogo, Akifumi; Oishi, Yuji*; Nayuki, Takuya*; Fujii, Takashi*; Nemoto, Koshichi*; Orimo, Satoshi; Takai, Mamiko; Hayashi, Yukio; Mori, Michiaki; Kado, Masataka; Nakamura, Shu*; Noda, Akira*; Choi, I. W.*; Sung, J. H.*; Ko, D.-K.*; Lee, J.*

高強度レーザーと薄膜との相互作用により生成される高エネルギーのX線,イオン,電子は、テーブルトップの放射線源として注目されさまざまな応用が提案されている。ここでレーザーと薄膜との相互作用の物理過程を調べるうえで、レーザーのプリパルスによって生成されるプリフォームドプラズマを評価しておく必要がある。本研究では、高強度レーザーを金属ターゲットに照射した際のプリフォームドプラズマを測定するため、2波長干渉計の開発を行った。実験は、電力中央研究所設置のチタンサファイアレーザー(中心波長800nm,パルス幅65fs)を集光用のポンプ光と計測用のプローブ光に分け、ポンプ光を銅テープターゲットに照射し、発生するプリフォームドプラズマをプローブ光の干渉計測によって測定した。ポンプ光の集光強度は$$sim$$2$$times$$10$$^{18}$$W/cm$$^{2}$$であり、プローブ光は、基本波(800nm)と2倍高調波(400nm)の2波長を用いて計測を行った。二つの波長によって得られた電子密度分布を組合せることにより、これまでの単一波長による計測よりも広い密度領域の計測に成功した。この計測法は、メインパルスと薄膜との相互作用の解明に有用な方法である。

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パーセンタイル:65.3

分野:Optics

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