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集束高エネルギー重イオンマイクロビームの形成,4

High-energy heavy ion microbeam formation with focusing system, 4

横田 渉; 佐藤 隆博; 及川 将一*; 酒井 卓郎; 奥村 進; 倉島 俊; 宮脇 信正; 柏木 啓次; 神谷 富裕; 福田 光宏*

Yokota, Wataru; Sato, Takahiro; Oikawa, Masakazu*; Sakai, Takuro; Okumura, Susumu; Kurashima, Satoshi; Miyawaki, Nobumasa; Kashiwagi, Hirotsugu; Kamiya, Tomihiro; Fukuda, Mitsuhiro*

TIARAのサイクロトロンで開発を進めている重イオンマイクロビーム形成技術の開発では、2004年度に260MeV-$$^{20}$$Ne$$^{7+}$$ビームを用いて、直径が約2$$mu$$mのマイクロビーム形成に成功した。2005年度には同ビームを用いて9回の実験を行い、平均的に1.7$$mu$$mのマイクロビームを得た。ビーム径とビーム強度の持続性については十分な知見が得られていないが、同ビームの2$$mu$$m程度のマイクロビームを数時間の照射実験に提供できる見通しが立った。そこで、2006年1月と3月に、マイクロビームを大気に取出して試験的に細胞や半導体等に照射する実験を初めて試みた。

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