の発光効率と発光中心形成永田 晋二*; 藤 健太郎*; 土屋 文*; 四竈 樹男*; 山本 春也; 高野 勝昌; 井上 愛知
Nagata, Shinji*; To, Kentaro*; Tsuchiya, Bun*; Shikama, Tatsuo*; Yamamoto, Shunya; Takano, Katsuyoshi; Inoue, Aichi
イオンビーム誘起発光はイオン照射下における酸化物セラミックス、特にSiOではESR活性でない欠陥の生成・消滅をその場観察できるユニークな実験方法であるが、エネルギーを失いながら進むイオンの飛跡に沿った発光を定量的に分析するためには発光中心に対する発光特性の評価が必要である。本研究ではSiO薄膜に対する水素及びヘリウムイオン誘起発光特性について、(1)イオンエネルギー,(2)入射粒子束密度依存性を調べた。実験では、0.1-3MeVの水素及びヘリウム入射に伴うSiO薄膜の発光効率を評価した。実験の結果、(1)水素イオンでは入射エネルギーの増加とともに発光強度が減少したが、ヘリウムの場合はほぼ一定であった。(2)入射粒子束密度が10
ions/m
以下の場合、発光効率は入射粒子束密度にほとんど影響されないが、粒子束密度が増えるとともに徐々に発光効率が減少する傾向にあることがわかった。
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使用言語 |
: | Japanese |
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: | 2006/09 |
開催都市 |
: | 札幌 |
開催国 |
: | 日本 |
キーワード |
: | no keyword |
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