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ゾルゲル法を用いた高レベル放射性廃液の低温ガラス固化

Low temperature vitrification of high-level radioactive waste by the sol-gel method

新原 盛弘; 藤原 孝治; 小坂 哲生 ; 上野 勤; 青嶋 厚 

Shimbara, Shigehiro; Fujiwara, Koji; Kozaka, Tetsuo; Ueno, Tsutomu; Aoshima, Atsushi

使用済み核燃料の再処理で発生する高レベル放射性廃液は安定で取扱が容易な形態であるガラスに固化処理される。現状のガラス固化処理法は高温の溶融ガラス(約1200$$^{circ}$$C)を用いるため、溶融炉構造材の侵食により炉の寿命が約5年と短い。一方、ゾルゲル法は軟化点以下(約600$$^{circ}$$C)で幅広い組成のガラスを作る手法としてガラスファイバー製造等に使われているが、このゾルゲル法をガラス固化に応用することでプラント寿命を大幅に延長することが期待される。本研究ではケイ酸エチルを出発原料としたゾルゲル法により、現在ガラス固化技術開発施設(TVF)で製造しているガラスと同一組成のガラスを合成し、ガラスの均質性をX線回折分析によって評価した。

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