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次世代高経済性再処理「FLUOREX法」の開発,11; F$$^{-}$$マスキング剤による腐食抑制効果の検討

Development of advanced reprocessing system "FLUOREX", 11; Discussion of corrosion moderation effect by F$$^{-}$$ masking agents

竹内 正行 ; 小泉 務; 星野 国義*; 河村 文雄*

Takeuchi, Masayuki; Koizumi, Tsutomu; Hoshino, Kuniyoshi*; Kawamura, Fumio*

FLUOREX法では通常のPUREX法と異なり、フッ化物揮発法で得られた残渣の中で酸化転換しにくい一部のフッ化物が湿式工程に同伴するため、特に装置材料の腐食に対する影響について考慮する必要がある。本件では、溶液環境側からの腐食抑制策として、腐食に影響するフッ素イオンを錯化させるマスキング剤を中心に腐食抑制効果を調査した。試験の結果から、添加したZr$$^{4+}$$, Al$$^{3+}$$, Ce$$^{3+}$$の各イオンについていずれも顕著な腐食抑制効果が認められ、中で最も腐食抑制効果の高いZr$$^{4+}$$の添加(溶液中濃度0.1M)では、8NHNO$$_{3}$$+0.1MHF, 100$$^{circ}$$Cの条件でSUS304Lの腐食速度が1/100以下まで低下することがわかった。

no abstracts in English

使用言語

 :

Japanese

掲載資料名

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巻

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号

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ページ数

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発行年月

 :

発表会議名

 :

日本原子力学会2007年秋の大会

開催年月

 :

2007/09

開催都市

 :

北九州

開催国

 :

日本

キーワード

 :

no keyword

特許データ

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広報プレスリリース

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論文解説記事
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受委託・共同研究相手機関

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日立製作所

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