LET dependence of single event transient pulse-widths in SOI logic cell

SOI論理セルにおけるシングルイベント過渡パルス幅のLET依存性

牧野 高紘*; 小林 大輔*; 廣瀬 和之*; 柳川 善光*; 齋藤 宏文*; 池田 博一*; 高橋 大輔*; 石井 茂*; 草野 将樹*; 小野田 忍; 平尾 敏雄; 大島 武

Makino, Takahiro*; Kobayashi, Daisuke*; Hirose, Kazuyuki*; Yanagawa, Yoshimitsu*; Saito, Hirobumi*; Ikeda, Hirokazu*; Takahashi, Daisuke*; Ishii, Shigeru*; Kusano, Masaki*; Onoda, Shinobu; Hirao, Toshio; Oshima, Takeshi

SET(Single Event Transient)パルス幅と線エネルギー付与(LET)との関係を求めるために、高い放射線耐性を持つSOI(Silicon on Insulator)基板上に試作したテストチップを用いてSETパルス幅のLET依存性を評価した。Kr322MeVとXe454MeVのイオンをテストチップに垂直又は45度で照射した。その結果、垂直入射の場合、LETの増加に対してSETパルス幅が直線的に増加し、45度の場合、LETの増加に対してSETパルス幅が飽和傾向を示すことがわかった。この飽和傾向を示す主な要因を調べるために3次元デバイスシミュレーター(TCAD)による解析を行った。その結果、重イオンによって誘起する過剰キャリアの再結合が飽和傾向を説明する一つの要因であることがわかった。

SET pulse-widths were measured as a function of LET by using pulse capture circuits and were simulated with mixed-mode 3-D device simulations. We found that the carrier recombination process dominates LET dependence of SET pulse-widths.