カルボキシメチルセルロース水溶液の放射線誘起ラジカルの反応挙動

Reaction behavior of radiation-induced radicals in carboxymethyl cellulose aqueous solution

佐伯 誠一; 室屋 裕佐*; 工藤 久明*; 長澤 尚胤; 廣木 章博; 玉田 正男; 勝村 庸介*

Saiki, Seiichi; Muroya, Yusa*; Kudo, Hisaaki*; Nagasawa, Naotsugu; Hiroki, Akihiro; Tamada, Masao; Katsumura, Yosuke*

高濃度ペースト状多糖類の橋かけ反応に対して、水の放射線分解生成物中のOHラジカルによる間接効果が起因となることに注目し、カルボキシメチルセルロース(CMC)とOHラジカルとの反応により生成する多糖ラジカルに対し水溶液中におけるESRスペクトルの直接観測を行い、詳細なラジカル構造を検討した。ラジカル周辺の水素原子の配置及び同様の周辺構造を有するラジカルの超微細結合定数による考察から、C2及びC3に連なるカルボキシメチル基上のラジカルからDoublet、C6に連なるカルボキシメチル基上のラジカルからTripletDoubletのスペクトルであると同定した。OHラジカルとCMCとの反応により生成する多糖ラジカルにはカルボキシメチル基第2級炭素上のラジカルであることがわかった。

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