Chemical-state resolved depth-profiling using angle-resolved X-ray photoelectron spectroscopy and the maximum entropy method

角度依存放射光X線光電子分光及び最大エントロピー法を用いた化学結合別深さ方向分布の評価

Harries, J.; 戸出 真由美; 角本 雄一; 井上 敬介; 吉越 章隆 ; 寺岡 有殿

Harries, J.; Tode, Mayumi; Sumimoto, Yuichi; Inoue, Keisuke; Yoshigoe, Akitaka; Teraoka, Yuden

SPring-8, BL23SUの高分解能表面化学実験ステーションを利用して化学結合状態別、角度別光電子スペクトルの測定が可能。最大エントロピー法を用いるとスペクトルに含まれる深さ方向の分布情報を取り出すことができる。この二つの手法の組合せの進歩について発表する。例として、窒化したアルミ(111)表面のN-化学結合状態別深さ方向分布について議論する。

Using the high energy resolution surface chemistry apparatus at SPring-8's BL23SU it is possible to record angular and chemical-state resolved X-ray photoelectron spectra. Chemical-state specific depth profile information can be obtained from these spectra using the maximum entropy method. Here we describe progress made in the combination of these two techniques, with the specific example of the depth-profiling of various nitridation states present in a Al(111) sample nitrided using a supersonic molecular beam.