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高分解能軟X線放射光光電子分光による重水素化VCrTi表面の熱安定性の評価

Study of thermal stability on surface of deuteration VCrTi by high resolution soft X-ray synchrotron radiation photoemission spectroscopy

戸出 真由美; Harries, J.; 寺岡 有殿; 角本 雄一; 井上 敬介; 吉越 章隆 

Tode, Mayumi; Harries, J.; Teraoka, Yuden; Sumimoto, Yuichi; Inoue, Keisuke; Yoshigoe, Akitaka

水素貯蔵合金表面の自然皮膜の熱安定性は、水素の吸収や脱離に影響を与える特性である。本研究では、VCrTi表面皮膜の熱変性過程を高分解能X線放射光光電子分光法で調べた。実験はSPring-8の原子力機構専用軟X線ビームライン(BL23SU)に設置した表面反応分析装置(SUREAC2000)を用いて行った。アニール前は酸化状態を示す光電子スペクトルが観測された。アニール後は酸化状態を示す光電子スペクトルが弱くなり、金属状態を示す光電子スペクトルが強くなった。表面に重水素を注入すると、自然酸化膜の変質温度が100$$^{circ}$$C程度高くなる結果が得られた。

Thermal stability of native oxide layer on the hydrogen storage materials is related to the hydrogen absorption and desorption. In this study, thermal degradation process of native oxide layer on VCrTi was observed by high resolution soft X-ray synchrotron radiation photoemission spectroscopy. All experiments have been conducted at the surface chemistry experimental station (SUREAC2000) at BL23SU, SPring-8. Before thermal annealing, photoemission spectrum of oxide was observed. After thermal annealing, the oxide peak was decreased, and the metal peak was increased. When the deuterium ion was implanted into the surface, the degeneration temperature of a natural oxide layer was observed to rise about 100 degrees.

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