Effect of vacuum ultraviolet exposure and surface oxide layer on the hydrogen desorption from hydrogenated diamond-like carbon films

水素化ダイヤモンドライクカーボン薄膜からの水素脱離に関する真空紫外光照射と表面酸化膜の効果

田川 雅人*; 横田 久美子*; 古山 雄一*; 神田 一浩*; 戸出 真由美; 吉越 章隆 ; 寺岡 有殿

Tagawa, Masahito*; Yokota, Kumiko*; Furuyama, Yuichi*; Kanda, Kazuhiro*; Tode, Mayumi; Yoshigoe, Akitaka; Teraoka, Yuden

水素化ダイヤモンドライクカーボン(HDLC)薄膜からの水素脱離に関して、真空紫外光と表面酸化膜の効果が調べられた。市販のHDLC基板,外部光源としてニュースバルのBL-6の放射光、及び、Dランプが用いられた。金属をドープしたHDLC上に約5eVの並進運動エネルギーを持つ超熱酸素原子ビームを照射することで、厚さが数ナノメーターのSiOとTiO薄膜が形成された。それを用いて水素脱離に関する酸化膜の効果が調べられた。SiOとTiOでは水素脱離温度に異なる影響を与える効果があることが確認された。

Effects of vacuum ultraviolet and surface oxide layer on the hydrogen desorption from hydrogenated diamond-like carbon (HDLC) films were investigated. We have used commercially available HDLC as a specimen, and synchrotron radiation at BL-6 in NewSUBARU or D lamp as an external source of photon energy. SiO and TiO surface oxide films with a few nanometer thickness were formed by irradiation of hyperthermal atomic oxygen beams with a translational energy of approximately 5 eV onto metal-doped HDLCs in order to investigate the effect of oxide film on the hydrogen desorption. It was confirmed that the effect of SiO and TiO gave different influence on desorption temperature of hydrogen.